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[发明专利]化学气相沉积涂层、制品和方法-CN201610697860.4在审
发明人： D·A·史密斯;J·B·马特泽拉;P·H·西尔维斯;G·A·贝伦 -专利权人：西尔科特克公司
申请日： 2010-10-26 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学气相沉积涂层、化学气相沉积制品和化学气相沉积方法。所述涂层、制品和方法包括二甲基硅烷的热分解，以实现期望的表面性质。
化学沉积涂层制品方法

[发明专利]化学气相沉积涂层、制品和方法-CN201080049826.7在审
发明人： D·A·史密斯;J·B·马特泽拉;P·H·西尔维斯;G·A·贝伦 -专利权人：西尔科特克公司
申请日： 2010-10-26 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学气相沉积涂层、化学气相沉积制品和化学气相沉积方法。所述涂层、制品和方法包括二甲基硅烷的热分解，以实现期望的表面性质。
化学沉积涂层制品方法

[实用新型]一种化学气相沉积设备的气体控制装置-CN202222601138.X有效
发明人：彭杰真 -专利权人：深圳市山禾乐科技开发有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种气体控制装置，尤其涉及一种化学气相沉积设备的气体控制装置。本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够控制不同气体进入气相室体积量的化学气相沉积设备的气体控制装置。一种化学气相沉积设备的气体控制装置，包括有支撑底板和反应气体储存罐等；支撑底板右侧安装有至少两个反应气体储存罐。本实用新型通过气体流量控制器可以设定不同气体进入气相室的体积量，适用于成型不同薄膜或晶体，同时能够通过球型阀，控制气体进入气相室，实现不同气体定量进入气相室进行反应，反应完全的尾气，排进尾气储存罐内，避免污染环境
一种化学沉积设备气体控制装置

[发明专利]化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备-CN201110120569.8有效
发明人：董志清 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2011-05-10 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提出一种化学气相沉积反应腔装置，包括：腔室本体，腔室本体内限定有反应腔室；上陪片，上陪片固定在反应腔室内，且上陪片设有至少一个检测通孔；托盘，托盘位于上陪片之下；旋转机构，旋转机构与托盘相连，且旋转机构用于驱动托盘旋转本发明还提出一种化学气相沉积设备。根据本发明的化学气相沉积反应腔装置能够降低检测仪的检测难度，提高检测精度。应用本发明的化学气相沉积设备使温度和成膜厚度检测更为精确，且节省检测时间。
化学沉积反应装置具有设备

[发明专利]一种用于金刚石生产的环保等离子体化学气相沉积设备-CN202210781970.4有效
发明人：李明;朱雨 -专利权人：徐州景澜新材料科技有限公司
申请日： 2022-07-05 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C16/511 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于金刚石生产的环保等离子体化学气相沉积设备，属于化学气相沉积技术领域。一种用于金刚石生产的环保等离子体化学气相沉积设备，包括：反应炉、转换器、微波发生器；本发明通过设置的中心转动轴、转动扇叶，配合驱动齿轮、从动齿轮，便于对滑动连接半环进行驱动，进而使得滑动连接半环转动，进而以提高出气管对金刚石籽晶表面的喷射效果，进而提高金刚石籽晶表面气相沉积的效果，同时设置了可转动的夹持装置，能够使得金刚石籽晶转动，便于对金刚石籽晶的多个面进行喷射，提高气相沉积效果；且在对反应炉接通等离子气体管道及对反应炉内通入等离子气体时，均可以提高夹持装置的夹持稳定性，进而提高对金刚石的气相沉积效果。
一种用于金刚石生产环保等离子体化学沉积设备

[实用新型]用于化学气相沉积设备的喷头-CN201020674385.7有效
发明人：许亮 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2010-12-21 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于化学气相沉积设备的喷头，所述用于化学气相沉积设备的喷头包括：气体供应管；具有一底板的喷头本体，所述喷头本体与所述气体供应管连通；所述底板上活动连接有多个用于喷洒气体的喷嘴，所述多个喷嘴与所述喷头本体连通通过本实用新型提供的用于化学气相沉积设备的喷头，当所述喷嘴由于射频电源的作用，或者其他外力的作用变形时，可通过更换所述喷嘴以喷洒出流量和流速均匀的混合气体，从而在晶片表面沉积一层厚度均匀的薄膜，不再需要更换整个喷头
用于化学沉积设备喷头

[发明专利]一种锂离子电池硅碳负极材料及其制备工艺和设备-CN202110137753.7在审
发明人：言伟雄;袁建陵 -专利权人：株洲弗拉德科技有限公司
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01M4/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种锂离子电池硅碳负极材料及其制备工艺和设备，负极材料包括基材和混合沉积在基材表面的纳米硅和纳米碳，所述基材为碳材料，所述纳米硅和纳米碳通过等离子增强化学气相沉积工艺混合沉积在基材表面，所述等离子增强化学气相沉积工艺过程中，基材在沉积区为流态化运动状态，所述等离子增强化学气相沉积工艺在流态化等离子气相沉积炉内进行，所述流态化等离子气相沉积炉内设有正极板和负极板，所述正极板和负极板之间为沉积区，所述负极板具有振动输料功能，所述基材在负极板的振动作用下在沉积区作流态化运动。本发明通过在基材表面混合沉积纳米碳和纳米硅，在纳米硅表面形成碳包覆层，提升了硅碳负极材料的性能。
一种锂离子电池负极材料及其制备工艺设备

[发明专利]一种锂离子电池硅碳负极材料及其制备工艺和设备-CN202110137754.1在审
发明人：言伟雄;袁建陵 -专利权人：株洲弗拉德科技有限公司
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01M4/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种锂离子电池硅碳负极材料及其制备工艺和设备，负极材料包括基材和沉积在基材表面的纳米硅，所述基材为碳材料，所述纳米硅通过等离子增强化学气相沉积工艺沉积在基材表面，所述等离子增强化学气相沉积工艺过程中，基材在沉积区为流态化运动状态，所述等离子增强化学气相沉积工艺在流态化等离子气相沉积炉内进行，所述流态化等离子气相沉积炉内设有正极板和负极板，所述正极板和负极板之间为沉积区，所述基材在负极板的振动作用下在沉积区作流态化运动本发明通过基材在沉积过程的流态化流动，确保纳米硅均匀且牢固的分布在碳材料上，解决了纳米硅因游离而抱团的问题，将其作为锂离子电池负极材料可以有效提高电池的工作性能。
一种锂离子电池负极材料及其制备工艺设备

[发明专利]用于化学气相沉积机台的真空泵的排气管及相应的真空泵-CN201110285412.0无效
发明人：陈鹏 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-09-23 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于化学气相沉积机台的真空泵的排气管，其两端分别与真空泵的出口端以及废气处理机连接，在排气管中设置有紧贴所述排气管内壁的防粘内衬管。本发明还涉及一种用于化学气相沉积机台的真空泵。本发明的用于化学气相沉积机台的真空泵的排气管及相应的真空泵不易在排气管中产生堵塞，解决了现有排气管易产生堵塞造成清理排气管的人力、时间的浪费以及对化学气相沉积机台设备可使用时间的影响。
用于化学沉积机台真空泵排气管相应

[发明专利]一种锂离子电池硅碳负极材料及其制备工艺和设备-CN202110137768.3在审
发明人：言伟雄;袁建陵 -专利权人：株洲弗拉德科技有限公司
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01M4/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种锂离子电池硅碳负极材料及其制备工艺和设备，负极材料包括基材和沉积在基材表面的纳米硅，所述基材为碳材料，所述纳米硅通过等离子增强化学气相沉积工艺沉积在基材表面，所述等离子增强化学气相沉积工艺过程中，基材在沉积区为流态化运动状态，所述等离子增强化学气相沉积工艺在流态化等离子气相沉积炉内进行，所述流态化等离子气相沉积炉内设有正极板、负极板和搅拌上料机构，所述基材在负极板振动作用和搅拌上料机构作用下在沉积区作流态化循环运动本发明通过基材在沉积过程的流态化流动，确保纳米硅均匀且牢固的分布在碳材料上，解决了纳米硅因游离而抱团的问题，将其作为锂离子电池负极材料可以有效提高电池的工作性能。
一种锂离子电池负极材料及其制备工艺设备

[发明专利]有机金属化学气相沉积设备-CN202210354709.6在审
发明人：朱锦新;龙俞伊;柴宝华;薛松龄;杜开文;毕可明;冯波;韩冶;王泽鸣;张亚坤;阎鑫;闫傲 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：一种有机金属化学气相沉积设备，该有机金属化学气相沉积设备包括：反应壳体，其用于形成发生有机金属化学气相沉积的反应腔；喷淋组件，其设置在反应腔的上部，与气体源流体连通并用于进行气体的喷淋；支承座，其用于支承基片根据本发明的有机金属化学气相沉积设备采用了具有高度均温性的平板热管加热装置，能够将平板热管加热装置的加热表面的温差控制在0.1℃以内，由此能够有利地确保对基片的均匀加热，使得基片的局部温差极小，同时能够非常快速地控制基片的升温或降温
有机金属化学沉积设备

[实用新型]化学气相沉积设备及其晶舟-CN200820123067.4有效
发明人：赵星;翟立君 -专利权人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2008-10-21 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学气相沉积设备，包括炉管和放置于所述炉管内的晶舟，所述晶舟包括第一端部和与所述第一端部相对的第二端部，在所述第一端部和第二端部之间具有多个相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽，且每个所述晶片插槽具有至少两个相互分离本实用新型还公开了对应的一种应用于化学气相沉积设备的晶舟。采用本实用新型的化学气相沉积设备及其晶舟，可以有效解决晶片在化学气相沉积后水平检测不过关的问题。
化学沉积设备及其

[发明专利]一种背面沉积腔室及化学气相沉积设备-CN202310365398.8在审
发明人：刘振;魏有雯;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种背面沉积腔室及化学气相沉积设备，涉及半导体处理设备技术领域，本申请的背面沉积腔室，应用于背面沉积应力薄膜，包括壳体，壳体内部形成有空腔，空腔内相对设置有第一分气组件和第二分气组件，第一分气组件和第二分气组件之间用于设置待镀晶圆，空腔内包围第一分气组件和第二分气组件设置有衬套组件，衬套组件上设置有抽气孔。本申请提供的背面沉积腔室及化学气相沉积设备能够抑制等离子体外散，从而提高等离子体的利用率，避免对空腔的污染。
一种背面沉积化学设备

[实用新型]催化化学气相沉积使用的载板及其催化化学气相沉积设备-CN202320094349.0有效
发明人：左国军;朱海剑 -专利权人：常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种催化化学气相沉积使用的载板及其催化化学气相沉积设备，载板具有板体，板体阵列均布有矩形的放置槽，放置槽的四周阵列设有穿透孔。载板应用于催化化学气相沉积设备，通过穿透孔实现经过钨丝分解后的工艺气体的气流场的均匀性，达到优异的镀膜均匀性。板体采用耐高温的碳纤维材质，来降低载板的受热膨胀，解决高温环境带来的载板下垂问题。
催化化学沉积使用及其设备

[发明专利]一种集成电路低压化学气相沉积系统-CN202210075158.X在审
发明人：郭芳 -专利权人：郭芳
申请日： 2022-01-22 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： B01D46/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成电路低压化学气相沉积系统，涉及化学气相沉积技术领域。该集成电路低压化学气相沉积系统，包括气相沉积机构，所述气相沉积机构设置有固定板，所述固定板的左侧固定连接有灰尘过滤机构，且气相沉积机构与灰尘过滤机构固定连接，所述固定板的外壁固定连接有灰尘清理机构，且气相沉积机构与灰尘清理机构固定连接该集成电路低压化学气相沉积系统，通过过滤网软性材料，过滤网位于固定板孔内的位置会陷入，进而使灰尘可以跟随气流的移动，移动到过滤网陷入的位置，灰尘堆积在一起后更易于成团，而且过滤网的一处凹陷，可以气流沿着凹陷的轨迹流动
一种集成电路低压化学沉积系统

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