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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种废水处理用化学品残留物过滤器组件-CN202222760848.7有效
发明人：刘勇;朱培才;刘伟;张俊利 -专利权人：潍坊迪蒙化工有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： B01D29/64 文献下载
摘要：本实用新型提供一种废水处理用化学品残留物过滤器组件，包括处理设备主体，所述处理设备主体的内部设置有过滤组件，所述过滤组件包括收集箱，所述收集箱的内部滑动连接有升降板，本实用新型提供的废水处理用化学品残留物过滤器组件，通过过滤网对处理设备主体内部的残留物进行过滤，然后通过转动电机的输出端带动推动盘旋转，进而会使得推动盘推动推动板，使得推动板对过滤网表面过滤的残留物进行推动，使得残留物进入收集箱的内部，使得可以避免残留物堵塞过滤网的同时还可以对残留物进行收集，避免了现有的处理设备主体在对污水处理后，污水中含有部分的化学品残留物，进而使得在对水进行排放时，容易造成水对过滤网进行堵塞的问题。
一种废水处理化学品残留物过滤器组件

[发明专利]具有金属蚀刻残留物的室部件的清洁方法-CN202180089442.6在审
发明人：杨文兵;萨曼莎·西亚姆华·坦;林染;塔玛尔·穆克吉;康潇宇;潘阳;石洪;周春红 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：提供一种在半导体处理室的部件的至少一表面上清洁残留物的方法，该残留物含有钌(Ru)残留物。将该残留物暴露至Ru清洁成分，其包含次氯酸盐以及O3基底的化学物质的至少一者，其中该Ru清洁成分去除该Ru残留物。
具有金属蚀刻残留物部件清洁方法

[发明专利]用于去除化学残留物的组合物及其用途-CN202080015793.8在审
发明人： A·杜瓦尔;J·布洛梅 -专利权人：普里沃国际公司
申请日： 2020-02-20 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C11D7/10 文献下载
摘要：本发明涉及用于去除化学残留物的组合物，使用所述组合物的方法，以及所述组合物用于去除被任何类型的化学品污染的材料、机器和设备上的残留物的用途。
用于去除化学残留物组合及其用途

[发明专利]一种去除塑封模具中模盒型腔残留物的方法-CN202010732992.2在审
发明人：方兆国;陈中洲 -专利权人：西安微电子技术研究所
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： B29C33/72 文献下载
摘要：本发明提供一种去除塑封模具中模盒型腔残留物的方法，包括如下步骤：步骤1，先将塑封模具中模盒型腔加热，使所述的残留物分解、软化和焦化，得到焦化后的残留物；步骤2，将焦化后的残留物进行清扫，完成塑封模具中模盒型腔残留物的去除本发明不涉及退镀、电镀和腐蚀等化学试剂处理工艺，在资源节约与环境保护方面远优于传统模具返厂维修；相比于化学试剂处理工艺更加温和，没有化学试剂的腐蚀影响，对模具和镀层的影响较小，对操作员工的健康无任何影响；相比于机械打磨工艺，附着残留物由高温高压气体清理，没有机械磨损现象，对模具和镀层的影响较小。
一种去除塑封模具中模盒型腔残留物方法

[发明专利]废纸化学残留物清除剂、应用及使用方法-CN201711318853.X有效
发明人：丁新泉;许小汉 -专利权人：江西省赣友高科实业有限公司
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： D21C5/02 文献下载
摘要：本发明公开一种解决国内造纸工业现阶段废纸再利用时植物纤维不能与化学残留物完全分离的现状，提高纸浆的清洁度和得浆率的废纸化学残留物清除剂、应用及使用方法，废纸化学残留物清除剂它包括混合后的A组份和B组份；按质量份数计，所述A组份包括：硫代硫酸钠：50份～70份；碳酸钠：10份～20份；磷酸三钠：15份～30份；所述B组份包括：乳化剂：1份～2份；油酸钠：3份〜5份；乳化剂OP‑10：3份〜5份;其应用是本废纸化学残留物清除剂应用于废纸回收纸浆中，使用方法是在纸浆中加入本废纸化学残留物清除剂即可。
废纸化学残留物清除应用使用方法

[发明专利]晶圆表面的铜层的研磨方法-CN201510199111.4在审
发明人：唐强 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆表面的铜层的研磨方法，向具有多个同心的环形凹槽的研磨垫注入研磨液时，在不同时间段内选定所述研磨垫上距离研磨垫中心不同位置的环形凹槽注入柠檬酸，利用柠檬酸去除不同位置的环形凹槽内的化学残留物，以去除研磨垫上不同位置所残留的化学残留物，较好的去除研磨垫上残留的化学残留物，避免出现晶圆表面的铜层上刮痕、表面粒子等缺陷，提高了产品的良率。
表面研磨方法

[发明专利]检测痕量农药残留物的电致化学发光传感器的制备及应用-CN201010507594.7无效
发明人：葛慎光;于京华;颜梅;黄加栋;杨萍;葛磊;万夫伟;赵珮妮;高伟强;卢娟娟;王少伟;张萌;藏德进;王寿梅;闫纪宪 -专利权人：济南大学
申请日： 2010-10-15 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： G01N21/76 文献下载
摘要：本发明公开了一种检测农药残留物的电致化学发光传感器及检测农药残留物的方法。电极制备方法(示意图见附图)，包括以下步骤：选择农药残留物的识别体；制备量子点及按照文献制备石墨烯纳米材料；利用电极表面修饰技术，将纳米材料和量子点及识别体修饰到传感器电极表面上。一种检测痕量农药残留物的方法，包括如下步骤将修饰好的电极连接到电致化学发光仪，对样品提取液中的农药残留物进行检测。电极检测农药残留物方法，操作快速简单，反应及结果均由仪器自动完成和记录。
检测痕量农药残留物化学发光传感器制备应用

[发明专利]铜钝化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法-CN200680027293.6无效
发明人：杰弗里·巴尔内斯;伊丽莎白·瓦尔克;达里尔·W·彼得斯;凯尔·巴尔托什;埃瓦·奥尔达克;凯文·P·严代尔斯 -专利权人：高级技术材料公司
申请日： 2006-05-25 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： C11D3/43 文献下载
摘要：本发明公开了用于从其上具有化学机械抛光后(CMP)残留物、蚀刻后残留物和/或污染物的微电子器件上清洗所述残留物和污染物的碱性水性清洗组合物和方法。所述碱性水性清洗组合物包括胺、钝化剂和水。所述组合物实现了从所述微电子器件上对所述残留物和污染物材料的高效清洗，同时使金属互连材料钝化。
钝化化学机械抛光清洗组合使用方法

[发明专利]用超临界二氧化碳工艺从半导体上去除光致抗蚀剂和光致抗蚀残留物-CN00819817.9无效
发明人： W·H·穆利 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2000-08-14 - 公布日： 2003-11-05 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：公开了从半导体基底上去除光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物的一种方法。将表面上有光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物的半导体基底放到压力室内。然后给压力室加压。将超临界二氧化碳和剥离剂化学药品导入压力室。超临界二氧化碳和剥离剂化学药品保持与光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物接触，直到从半导体基底去除掉光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物。然后冲洗和风干压力室。在另一个实施方案中，超临界二氧化碳携带有机或者无机化学药品或者有机和无机化学药品的组合进入压力室。有机或者无机化学药品或者它们的组合与晶片表面上的抗蚀剂、抗蚀残留物和有机污染物相互作用，并且将这些材料和剩余化学药品带出这个压力室。
临界二氧化碳工艺半导体去除光致抗蚀剂光致抗蚀残留物

[发明专利]用于鉴定水样中生物残留物或化学残留物的装置和方法-CN201580049765.7在审
发明人：艾伦·约瑟夫·鲍尔;内坦内尔·莱什 -专利权人：艾伦·约瑟夫·鲍尔;内坦内尔·莱什
申请日： 2015-07-12 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： G01N27/60 文献下载
摘要：用于快速检测液体样品中的生物残留物和/或化学残留物的方法和装置，其中，单电极(910)可非接触地接近流动的水溶液(999)，与所述单电极通信的电计量装置(960)记录电输出。样品(995)的注入或流动引起电磁场的产生；这些场可被记录在电计量装置中，不含预定残留物或目标残留物通常产生最高信号。可用该方法和系统的各实施例进行一般和特定目标检测。
用于鉴定水样生物残留物化学装置方法

[发明专利]化学机械研磨后残留物的去除方法-CN200910052550.7无效
发明人：黄孝鹏 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-06-04 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明揭露了一种化学机械研磨后残留物的去除方法，包括：提供一化学机械研磨后的晶片；使用化学清洗液清洗所述晶片；使用去离子水冲洗所述晶片；再次使用所述化学清洗液清洗所述晶片。本发明可有效去除晶片表面的残留物，提高半导体器件的可靠性及稳定性。
化学机械研磨残留物去除方法

[发明专利]用于CPM后清除配方的新抗氧化剂-CN201510651623.X有效
发明人：张鹏;杰弗里·巴尔内斯;普雷尔那·森塔利亚;埃马努埃尔·库珀;卡尔·博格斯 -专利权人：安格斯公司
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： C11D3/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于从其上带有化学机械抛光(CMP)后残留物和污染物的微电子装置中清除所述残留物和污染物的清除组合物和方法。该清除组合物含有新型缓蚀剂。该组合物实现了CMP后残留物和污染物材料从微电子装置表面上的高度有效的清除，而不损害低k介电材料或铜互连材料。
用于 cpm 清除配方抗氧化剂

[发明专利]用于CPM后清除配方的新抗氧化剂-CN200880016457.4有效
发明人：张鹏;杰弗里·巴尔内斯;普雷尔那·森塔利亚;埃马努埃尔·库珀;卡尔·博格斯 -专利权人：高级技术材料公司
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： C11D1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于从其上带有化学机械抛光(CMP)后残留物和污染物的微电子装置中清除所述残留物和污染物的清除组合物和方法。该清除组合物含有新型缓蚀剂。该组合物实现了CMP后残留物和污染物材料从微电子装置表面上的高度有效的清除，而不损害低k介电材料或铜互连材料。
用于 cpm 清除配方抗氧化剂

[发明专利]铜清洁及保护调配物-CN200980141809.3有效
发明人：杰弗里·A·巴尼斯;布莱恩·贝纳科;卡尔·E·博格斯;丰琳;刘俊;梅里萨·A·佩特鲁斯卡;颜晓冬;张鹏 -专利权人：高级技术材料公司
申请日： 2009-10-20 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： C11D1/62 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于从其上含有化学机械抛光(CMP)后残留物及污染物的微电子器件清洁该残留物及污染物的清洁组合物及方法。该清洁组合物包括新的腐蚀抑制剂。该组合物实现高效清洁该微电子器件表面的CMP后残留物及污染物，且不会损及低k介电材料或铜互连材料。
清洁保护调配

[发明专利]基于免疫法的食品中兽药和饲料添加剂残留检测的方法-CN200910070801.4无效
发明人：刘瑾;徐可欣;林旺;张婉洁;苏洋 -专利权人：天津大学
申请日： 2009-10-14 - 公布日： 2010-04-14 - 主分类号： G01N33/53 文献下载
摘要：本发明公开一种利用免疫法精确测量多种具有交叉反应的兽药或者饲料添加剂混合残留物的方法，提出首先测量抗体对各个残留物的完全抑制率，并据其建立修正模型，在采用多种抗体分别对残留物进行单一测量的基础上，利用模型进行测量结果的修正，最终获得样品中混合残留物的各组分的精确含量。本发明解决了利用免疫法在残留物测量过程中，特异性抗体无法区分化学结构式相似的残留物而发生交叉反应，导致测量不准确的问题。
基于免疫食品兽药饲料添加剂残留检测方法

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