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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]肉品有害化学残留无损快速检测方法-CN201610324263.7有效
发明人：彭彦昆;翟晨;李永玉;李延;杨宇 -专利权人：中国农业大学
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本发明提供一种肉品有害化学残留无损快速检测方法，包括：采集含有不同含量有害化学残留的肉品样品的空间扩散拉曼光谱图像；确定所述空间扩散拉曼光谱图像的最佳空间范围；根据所述最佳空间范围，获取有害化学残留的特征波数处的拉曼空间扩散轮廓；对有害化学残留的各特征波数处的拉曼空间扩散轮廓进行拟合，获取拉曼空间扩散的特征参数；采用多元变量建模方法，建立用于表征所述特征参数与肉品有害化学残留的定量关系的预测模型；获取待测肉品的空间扩散拉曼光谱图像，并根据所述预测模型对待测肉品中的有害化学残留进行检测。上述方法基于空间扩散拉曼光谱特征，能对肉品有害化学残留进行快速、精确、可靠、非接触、无损的检测。
有害化学残留无损快速检测方法

[发明专利]一种化学机械研磨装置和化学机械研磨方法-CN201710597776.X有效
发明人：宁威;任保军 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种化学机械研磨装置和化学机械研磨方法，所述装置包括：研磨头清洗装置，所述研磨头清洗装置在化学机械研磨后对研磨头进行清洗。根据本发明的化学机械研磨装置和化学机械研磨方法，对半导体晶圆进行化学机械研磨后对研磨头进行清洗，有效去除了在化学机械研磨中残留在研磨头或研磨头边缘上的颗粒、副产物以及研磨液结晶等残留物，防止了残留物对下一步化学机械研磨或下一片晶圆的化学机械研磨的损伤
一种化学机械研磨装置方法

[发明专利]化学机械研磨后的清洗方法-CN200910200994.0有效
发明人：徐长春;郝娟玲 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-12-23 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学机械研磨后的清洗方法，该方法应用于边缘制作有表示光刻图形位置的对准标记的晶圆，所述晶圆的对准标记中残留有化学机械研磨产生的颗粒，该方法包括：在化学机械研磨后利用氧气的等离子体轰击晶圆表面本发明的方法对化学机械研磨后的清洗步骤进行了改进，在化学机械研磨后利用氧气的等离子体对化学机械研磨后的晶圆进行轰击处理，降低了残留的颗粒与对准标记侧壁的附着力，在化学机械研磨后的湿法清洗时利用不含氮气的去离子水清洗对准标记中残留的颗粒，减小了去离子水对残留的颗粒的冲击力，能够去除对准标记及晶圆表面残留的化学机械研磨产生的颗粒，降低晶圆的缺陷密度。
化学机械研磨清洗方法

[发明专利]一种联合化学法制备低残留氨甘草酸二钾盐的方法-CN202111485037.4有效
发明人：陈振鸿;安晨光;寮渭萍;石向军 -专利权人：陕西富捷药业有限公司
申请日： 2021-12-07 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C07J63/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种联合化学法制备低残留氨甘草酸二钾盐的方法，属于化学领域。本发明以联合化学方法解决生产甘草酸二钾盐中氨的残留量高的问题，本发明使用甘草酸单铵盐为原料，在制备过程中分四个步骤联合除去其中的副产氨。本发明提供的联合化学法制备低残留氨甘草酸二钾的方法具有成本低且环保、乙醇和氨的残留非常低、产品质量高等优点。
一种联合化学法制残留甘草钾盐方法

[发明专利]一种土壤中有机氯农药残留修复的方法-CN201710876912.9在审
发明人：项田武 -专利权人：南京律智诚专利技术开发有限公司
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： B09C1/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种土壤中有机氯农药残留修复的方法，先对土壤中农药残留进行检测，记录取样检测的有机氯农药残留的土壤的经纬度、深度、残留量数据；将记录数据传输给处理器；处理器并对数据进行分析、统计、存储；计算出在不同经纬度、深度的残留量所需的化学吸附剂的使用量；控制器控制化学试剂喷洒装置喷洒化学吸附剂；喷洒的土壤经纬度、深度与检测的经纬度、深度一致。本发明实现快速有效的喷洒化学吸附剂，避免化学吸附剂的无效喷洒及喷洒过多过少的问题。
一种土壤有机农药残留修复方法

[发明专利]残留杀孢子表面消毒剂-CN202080091015.7在审
发明人： G·P·斯罗安;K·C·惠尔斯 -专利权人：美可帮产品公司
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： A01N25/28 文献下载
摘要：提供一种或多种残留杀孢子消毒剂组合物。所述残留杀孢子消毒剂组合物包含包封的氧化性化学组成。或者，残留杀孢子消毒剂组合物包含非氧化性化学组成。
残留孢子表面消毒剂

[实用新型]一种用于添加液状化学制剂的防残留管道装置-CN202023171248.4有效
发明人：连琳杰 -专利权人：瑞思埃克（成都）新材料科技有限责任公司
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： F16L9/14 文献下载
摘要：本实用新型属于工业生产化学助剂添加装置领域。当前在工业生产中使用管道添加液状化学助剂时，液状化学助剂会在管道内残留，影响其他化学助剂的效果，而清洗管道又费时费力。本实用新型提供了一种用于添加液状化学制剂的防残留管道装置，包括输送管和振动器。其中输送管内壁具有“微纳结构”疏水材料制成的内衬，振动器安装在所述输送管上。该装置避免了液状化学助剂在管道内残留的问题，不需要清洗，就可添加多种不同的液状化学助剂。
一种用于添加液状化学制剂残留管道装置

[发明专利]晶圆表面的铜层的研磨方法-CN201510199111.4在审
发明人：唐强 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆表面的铜层的研磨方法，向具有多个同心的环形凹槽的研磨垫注入研磨液时，在不同时间段内选定所述研磨垫上距离研磨垫中心不同位置的环形凹槽注入柠檬酸，利用柠檬酸去除不同位置的环形凹槽内的化学残留物，以去除研磨垫上不同位置所残留的化学残留物，较好的去除研磨垫上残留的化学残留物，避免出现晶圆表面的铜层上刮痕、表面粒子等缺陷，提高了产品的良率。
表面研磨方法

[外观设计]便携式抗生素电化学检测器-CN202230686232.2有效
发明人：王堤;郎丹梅;潘陆;刘蕊 -专利权人：哈尔滨商业大学
申请日： 2022-10-18 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：便携式抗生素电化学检测器。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于抗生素类残留、兽药残留、激素类残留、毒素类残留，化学类残留等多种项目检测。
便携式抗生素电化学检测器

[发明专利]一种检测试剂盒的生产工艺及其用途-CN202010767564.3在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：苏州韵之秋智能科技有限公司
申请日： 2020-08-03 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：本发明在使用时将盛放有检测的化学成分、药物残留、病毒种类等化学试剂管穿过防护环放入限位槽的内部，放入后利用限位槽的内部设置有海绵垫，可以在使用时对从检测的化学试剂管内部泄漏出的液体进行吸附，避免检测的化学成分、药物残留、病毒种类等化学试剂管内部的液体出现泄漏的现象，利用限位板可以在使用时对检测的化学成分、药物残留、病毒种类等化学试剂管在内箱内部的位置进行限定，避免检测的化学成分、药物残留、病毒种类等化学试剂管在安装后出现位移与倾倒的现象
一种检测试剂盒生产工艺及其用途

[发明专利]一种原料药中叔丁胺残留量的分析方法-CN202210154760.2在审
发明人：游承江;邓学鹏;熊玲;王颖 -专利权人：成都硕德药业有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学原料药中叔丁胺残留量的分析方法，采用反向液相色谱‑紫外检测器对叔丁胺衍生物进行检测，通过此方法可以准确测定化学原料药中叔丁胺的残留量，可定量检出化学原料药中10ppm以上的叔丁胺残留更好的保证化学原料药的质量，具有操作简单，灵敏度高，重现性好的优点。
一种原料药中叔丁胺残留分析方法

[发明专利]蚀刻后聚合物残留除去方法-CN200880107210.3有效
发明人：尹秀敏;马克·威尔考克森;朱吉;庄凯文;小伟·庄;娄大卫 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-06-20 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种用于从衬底表面除去蚀刻后聚合物残留的方法和系统，包括确定用于从该衬底表面除去蚀刻后聚合物残留的干式快速化学物质。该干式快速化学物质被配置为选择性地除去一区域中蚀刻操作留下的蚀刻后聚合物残留，其中在该区域中穿过低k电介质膜层形成特征。使用很短的快速处理施用该确定的干式快速化学物质以除去该蚀刻后聚合物残留的至少一部分同时最小化对该电介质膜层的损害。然后向该衬底表面施用湿式清洁化学物质。该湿式清洁化学物质的施用有助于基本上除去该短快速处理留下的蚀刻后聚合物残留。
蚀刻聚合物残留除去方法

[实用新型]一种化工设备用混合液体搅拌装置-CN202022318877.9有效
发明人：徐文 -专利权人：天津昌实新材料科技有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： B01F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化工设备用混合液体搅拌装置，包括搅拌罐，所述搅拌罐内部设有搅拌扇叶，所述搅拌罐的顶端设有清洁搅拌扇叶上残留化学品的清洁机构，此化工设备用混合液体搅拌装置，通过操作清洁机构，解决了当搅拌机对其进行搅拌后会有化学残留品积累在搅拌扇叶的外壁，长时间不作业静置的情况下残留的化学品会对搅拌扇叶造成腐蚀的问题，实现了每次搅拌作业完成后，对搅拌扇叶进行自动清洁处理，刮去搅拌扇叶上残留的化学用品，保护了搅拌扇叶不会长期处于化学用品的浸泡侵蚀，提高了整套装置的寿命与清洁卫生程度
一种化工备用混合液体搅拌装置

[发明专利]一种低残留清洗剂-CN201410701496.5在审
发明人：卢家雄 -专利权人：卢家雄
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： C11D1/83 文献下载
摘要：本发明公开了一种低残留清洗剂，由多种化学物质组成。本发明的有益效果为：本发明提供的一种低残留清洗剂，对多种污渍均有较强祛除效果，分解污渍能力强，且生产和使用过程无毒无害，长期使用无化学残留，市场前景良好。
一种残留洗剂

[发明专利]废纸化学残留物清除剂、应用及使用方法-CN201711318853.X有效
发明人：丁新泉;许小汉 -专利权人：江西省赣友高科实业有限公司
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： D21C5/02 文献下载
摘要：本发明公开一种解决国内造纸工业现阶段废纸再利用时植物纤维不能与化学残留物完全分离的现状，提高纸浆的清洁度和得浆率的废纸化学残留物清除剂、应用及使用方法，废纸化学残留物清除剂它包括混合后的A组份和B组份；按质量份数计，所述A组份包括：硫代硫酸钠：50份～70份；碳酸钠：10份～20份；磷酸三钠：15份～30份；所述B组份包括：乳化剂：1份～2份；油酸钠：3份〜5份；乳化剂OP‑10：3份〜5份;其应用是本废纸化学残留物清除剂应用于废纸回收纸浆中，使用方法是在纸浆中加入本废纸化学残留物清除剂即可。
废纸化学残留物清除应用使用方法

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