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[实用新型]一种稀土溶液用残留物回收装置-CN202220114747.X有效
发明人：林仙 -专利权人：邓慧
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B01D21/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种回收装置，尤其涉及一种稀土溶液用残留物回收装置。技术问题为：提供一种可以节省时间的稀土溶液用残留物回收装置。一种稀土溶液用残留物回收装置，包括有底板和水箱，底板顶部设有水箱；导轨块，水箱顶部两侧均设有导轨块；手柄，导轨块之间滑动式设有手柄；收集箱，手柄底部设有收集箱。本实用新型通过收集箱可以对稀土溶液上的残留物进行打捞，收集箱和水箱内壁接触，所以一次性即可将稀土溶液上的残留物全部回收，节省大量的时间，矩形框可以收集水箱内的沉积物，使用方便。
一种稀土溶液残留物回收装置

[实用新型]七氟丙烷灭火剂残留物检测装置-CN201520476866.X有效
发明人：刘慧敏;庄爽;王帅;陈培瑶 -专利权人：公安部天津消防研究所
申请日： 2015-07-03 - 公布日： 2015-10-21 - 主分类号： G01N5/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种七氟丙烷灭火剂残留物检测装置，包括称量管和蒸发管，所述称量管可拆卸地设于所述蒸发管的底部，所述称量管的下方设有恒温水槽，所述称量管的一部分设于所述恒温水槽内，所述恒温水槽温度可调。本实用新型提供了一种七氟丙烷残留物的检测装置，而且本装置结构简单、成本低，可以高效、方便、快捷地检测出七氟丙烷残留物性能；本装置填补了对于七氟丙烷灭火剂蒸发残留物检测装置的空白，是一种衡量七氟丙烷灭火剂蒸发残留物性能的新装置；该装置可实现七氟丙烷灭火剂的蒸发残留物的检测，具备结构紧凑，操作简便，适用性强，应用范围广等优点。
丙烷灭火剂残留物检测装置

[发明专利]一种回收顺酐反应装置中残留顺酐的方法-CN201610618367.9在审
发明人：夏翠平;束立军;孔建新;刘福军 -专利权人：南京钟腾化工有限公司
申请日： 2016-08-01 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： C07D307/60 文献下载
摘要：本发明涉及一种回收顺酐反应装置中残留顺酐的方法，包括以下步骤：1）将有机吸收剂从吸收塔塔顶喷射进入吸收塔内，并对顺酐进行吸收；2）将吸附溶液从吸收塔中部进入吸收塔内，并对顺酐进行二次吸收；3）向吸收塔塔内通入酸性溶液，并对吸收塔内剩余的残留物质进行清洗；4）将经过步骤1)反应后的剩余有机吸收剂进行回收，将经过步骤2）反应后的剩余有机吸收剂进行回收，并向混合溶液中加入催化剂，并将混合物水洗、过滤之后，将混合物冷却结晶并过滤，再次向过滤液中加入催化剂，并将混合物水洗、过滤之后，将混合物冷却结晶并过滤，并将两次结晶进行混合后并干燥；本发明可以对反应装置中残留的顺酐进行回收，有效实现了实现资源的再利用。
一种回收反应装置残留方法

[发明专利]无残留物双层微影方法-CN02144050.6无效
发明人：林智勇 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-09-19 - 公布日： 2003-04-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种无残留物双层微影方法，首先于一基底上涂布一第一光阻层，并烘烤第一光阻层，然后于第一光阻层的表面涂布一第二光阻层，曝光显影第二光阻层，以暴露出一预定区域的第一光阻层，再进行一非等向性O2/SO2等离子干蚀刻制程，以去除预定区域中的第一光阻层，最后进行一干式去残留物程序，以去除该O2/SO2等离子干蚀刻制程中所产生的残留物；本发明方法结合非等向性O2/SO2等离子干式显影步骤，并且增加一道干式去残留物的制程，只需要氟碳化合物气体与氧气的混合气体等离子冲击开口处残余的残留物数秒钟，便可以去除在双层光阻微影中所产生的残留物；可以解决习知干式显影过程中的残留物问题，且制程时间短，完全不会造成半导体制程的复杂化与产能降低。
残留物双层方法

[发明专利]量子点-聚合物复合物膜、其制造方法和包括其的装置-CN201710977354.5有效
发明人：金泰坤;权河一;田信爱 -专利权人：三星电子株式会社;三星显示有限公司;三星SDI株式会社
申请日： 2017-10-19 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：公开量子点‑聚合物复合物膜、其制造方法和包括其的装置。所述量子点‑聚合物复合物膜包括：多个量子点，其中所述量子点在其表面上包括有机配体；包含碳‑碳不饱和键的能光聚合的单体的固化产物；和选自高沸点溶剂的残留物、多价金属化合物的残留物、及其组合的残留物。
量子聚合物复合物制造方法包括装置

[发明专利]由甘油制备表氯醇的方法-CN200980133622.9有效
发明人：沃尔特·坎兹勒 -专利权人：沃尔特·坎兹勒
申请日： 2009-08-24 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： C07D301/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种制备表氯醇的新方法，其特征在于，在泡罩塔(K10)中用气态氯化氢对甘油进行氯化，其中，将氯化氢、甘油和由该泡罩塔下游的蒸馏单元(K14，K18)返回的由一氯丙二醇和剩余甘油、二氯丙醇和残留物组成的混合物加入泡罩塔(K10)的塔底，并在泡罩塔(K10)的塔顶附近取出在那里形成的混合物，由一氯丙二醇、二氯丙醇、水、剩余甘油和残留物所组成，并加入至少一个蒸馏单元(K14)，之后用碱液对在那里蒸馏出的二氯丙醇和水进行皂化
甘油制备表氯醇方法

[实用新型]一种便于收集废弃物的不锈钢换药操作台-CN202220994016.9有效
发明人：盛有宝;陈亦成 -专利权人：苏州璟科金属科技有限公司
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： A61G12/00 文献下载
摘要：本实用新型在使用过程中可以将残留在换药操作台台面上的液体残留物和固体残留物进行分类分离清理，使得液体残留物和固体残留物可以由换药操作台上方便快速的清理，使得换药操作台可以将液体残留物和固体残留物清理后进行方便快捷的清洗和消毒处理
一种便于收集废弃物不锈钢换药操作台

[发明专利]减少乙烯基芳族聚合物中残留物含量的方法-CN200780032518.1有效
发明人：托马斯-莫里斯·鲁塞尔;布鲁诺·武伊莱明;弗朗索瓦·法朱拉 -专利权人：道达尔石化法国公司;国家科学研究中心
申请日： 2007-07-13 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： C08F12/00 文献下载
摘要：本发明涉及减少乙烯基芳族聚合物中残留物含量的方法，所述残留物包括基本上未聚合的乙烯基芳族单体，其中使熔融状态的乙烯基芳族聚合物与能够催化在乙烯基芳族聚合物上的残留乙烯基芳族单体烷基化的粉末固体接触。本发明的优点在于乙烯基芳族聚合物中未聚合的乙烯基芳族单体的急剧减少而不产生新的残留物且不导致有色的乙烯基芳族聚合物。本发明还涉及具有低残留物含量的所述乙烯基芳族聚合物。
减少乙烯基聚合物残留物含量方法

[实用新型]铜粉分离回收系统-CN202220421624.0有效
发明人：刘煌萍;李春明 -专利权人：广东广铝铝型材有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B07B9/00 文献下载
摘要：旨在对铜粉与挂具残留物进行分离回收。抽风机、振动箱以及多层分级筛；多层分级筛从上到下间隔设置在振动箱内；任意相邻的两层分级筛中，位于下方的分级筛的筛孔小于位于上方的分级筛的筛孔；送料管与振动箱连接，抽风机设置在送料管上，送料管用于将铜粉残留物输送到筛孔最大的分级筛上；多层分级筛用于在振动的过程中对铜粉残留物进行筛分。采用抽风机将铜粉残留物吸入振动箱，通过设置多层分级筛对铜粉残留物进行分级筛分回收，大块及中块颗粒物回收重熔，粉状物即磨损的铜灰回收再利用。能够快速的实现对铜粉与挂具残留物的分离回收。
分离回收系统

[发明专利]一种检测果汁中农药残留的方法-CN201711450471.2有效
发明人：齐沛沛;王新全;王祥云;杨雪葳;王娇;田培;汪志威;徐霞红;狄珊珊;徐浩;王强 -专利权人：浙江省农业科学院
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种检测果汁中农药残留的方法，将SPME萃取针插入果汁、氯化钠和Fe3O4‑聚多巴胺的混合液中，进行萃取，得到农药残留物提取物；将所述农药残留物提取物进行分析，得到农药残留分析结果。，Fe3O4‑聚多巴胺上的羟基与果汁中的糖类结合，起到了吸附糖类的作用，减小了果汁中糖类杂质对SPME萃取针萃取农药残留物的干扰，氯化钠能够促进农药残留物进入SPME萃取针，进而使农药残留物的提取率提高；同时由于糖类杂质吸附在Fe3O4‑聚多巴胺上
一种检测果汁农药残留方法

[发明专利]用于重烃进料的微碳残留物内容物催化转化的方法及其中使用的低表面积催化剂组合物-CN201480062899.8有效
发明人： J·M-R·吉内斯特拉;D·E·舍伍德;D·A·科马 -专利权人：国际壳牌研究有限公司
申请日： 2014-11-20 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： C10G45/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种经改良的用于重烃进料的微碳残留物内容物的加氢转化方法，该方法利用特别可用于此类进料的微碳残留物的转化的催化剂组合物。该催化剂组合物是一种低表面积组合物，其另外具有具体限定的孔隙结构，其组合用于增强其微碳残留物转化特性。
用于进料残留物内容催化转化方法其中使用表面积催化剂组合

[发明专利]用于处理电气保护设备壁表面的方法及包括至少一个根据其处理的壁的设备-CN201480063404.3有效
发明人： M.拉皮奥克斯;M.里瓦尔;S.法伊克 -专利权人：施耐德电器工业公司
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01H73/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于处理壁的表面(18)的方法，以降低其导电性，所述表面位于被称为冷区域的区域中，所述区域位于其中电弧可能会发生在电弧保护设备中的区域附近，所述冷区域构成用于再冷凝切割残留物的区域。所述方法的特征在于，其包括对所述表面(18)进行微纹理化，以便促进切割残留物的再冷凝的不均匀性，通过所述残留物的沉积物在表面上生长，从而创建残留物岛部(19)，因此限制所产生的沉积物的导电性。
沉积物导电性冷区域再冷凝切割电气保护设备电弧不均匀性电弧保护壁表面微纹理岛部生长创建

[发明专利]用于去除灰化和未灰化铝蚀刻后残留物的超临界二氧化碳化学制剂-CN200380102230.9无效
发明人：迈克尔·B·克赞斯基;埃利奥多·G·根丘;许从应;托马斯·H·包姆 -专利权人：高极技术材料公司
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：一种用于从半导体基片上的微小区域去除灰化或未灰化铝/SiN/Si蚀刻后残留物的蚀刻后残留物清洗组合物。该组合物含有超临界二氧化碳(SCCO₂)、醇、氟源、铝离子络合剂和任选的阻蚀剂。此种清洗组合物克服了SCCO₂作为清洗剂的固有缺陷，即SCCO₂的非极性特性及与其相关的不能溶解诸如无机盐和极性有机化合物类型的物质，所述类型的物质存在于蚀刻后残留物中并且为了有效清洗必须从半导体基片上除去本清洗组合物能实现其上具有灰化或未灰化铝/SiN/Si蚀刻后残留物的基片的无损伤、无残留物清洗。
用于去除灰化蚀刻残留物临界二氧化碳化学制剂

[发明专利]用于CPM后清除配方的新抗氧化剂-CN201510651623.X有效
发明人：张鹏;杰弗里·巴尔内斯;普雷尔那·森塔利亚;埃马努埃尔·库珀;卡尔·博格斯 -专利权人：安格斯公司
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： C11D3/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于从其上带有化学机械抛光(CMP)后残留物和污染物的微电子装置中清除所述残留物和污染物的清除组合物和方法。该清除组合物含有新型缓蚀剂。该组合物实现了CMP后残留物和污染物材料从微电子装置表面上的高度有效的清除，而不损害低k介电材料或铜互连材料。
用于 cpm 清除配方抗氧化剂

[发明专利]用于CPM后清除配方的新抗氧化剂-CN200880016457.4有效
发明人：张鹏;杰弗里·巴尔内斯;普雷尔那·森塔利亚;埃马努埃尔·库珀;卡尔·博格斯 -专利权人：高级技术材料公司
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： C11D1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于从其上带有化学机械抛光(CMP)后残留物和污染物的微电子装置中清除所述残留物和污染物的清除组合物和方法。该清除组合物含有新型缓蚀剂。该组合物实现了CMP后残留物和污染物材料从微电子装置表面上的高度有效的清除，而不损害低k介电材料或铜互连材料。
用于 cpm 清除配方抗氧化剂

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