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[发明专利]光刻胶组合物-CN200510128708.6有效
发明人： J·F·卡梅伦;D·W·李;P·特雷夫纳斯;G·J·斯万森;J.W.宋 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2005-11-24 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供了化学增幅的正光刻胶组合物，它包含含有缩醛和脂环族基团的树脂。本发明的光刻胶具有明显提高的光刻性能。本发明优选的光刻胶包含一种或多种光致酸形成剂化合物，且一种或多种酚醛树脂包含一个或多个光致酸不稳定的缩醛基团和一个或多个脂环族基团，如金刚烷基。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201210496282.X无效
发明人： J·F·卡梅伦;S·J·姜;J·W·成 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2005-11-24 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了化学增幅型正性光刻胶组合物，它包含具有缩醛和脂环基的添加剂。本发明优选的光刻胶包括含具有一个或多个光酸不稳定部分的聚合物的树脂组分、一种或多种光酸生成化合物以及包含一种或多种脂环基例如金刚烷基的添加剂等。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN200510128706.7无效
发明人： J·F·卡梅伦;S·J·姜;J·W·成 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2005-11-24 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了化学增幅型正性光刻胶组合物，它包含具有缩醛和脂环基的添加剂。本发明优选的光刻胶包括含具有一个或多个光酸不稳定部分的聚合物的树脂组分、一种或多种光酸生成化合物以及包含一种或多种脂环基例如金刚烷基的添加剂等。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201210264011.1有效
发明人：李明琦;E·阿恰达;刘骢;陈庆隆;山田晋太郎;C-B·徐;J·玛蒂亚 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2012-05-28 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种光刻胶组合物包含酸敏感聚合物，和具有如下通式的环状锍化合物：(Ra)1-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基，C6-30芳基，C7-30芳烷基，或包含前述至少一种的组合，Ar是单环，多环，或稠合多环C6-30芳基，每个Rb独立地为H，F，直链或支链的C1-10氟烷基，或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基，L是C1-30的连接基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含至少一种前述杂原子的组合，X是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或稠合多环脂环基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含前述至少一种的组合，并且1是0到4的整数，m是3到20的整数，n是0到4的整数，且p是0到2的整数。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN02148233.0有效
发明人： J·F·卡米隆;S·L·阿布拉加 -专利权人：希普雷公司
申请日： 2002-08-15 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明的光刻胶含有附加酸成分，已发现该酸成分能显著改善制造与使用之间的储存期的稳定性。优选的本发明光刻胶除含有酸成分外还含有诸如乳酸乙酯或丙二醇甲基醚乙酸酯的酯基溶剂。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN200510128887.3有效
发明人： J·M·明茨;M·J·考夫曼;N·S·杰西曼 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2005-12-05 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的光刻胶包含添加的酸反应组分、以及一种或多种树脂和光活性组分。本发明优选的光刻胶可在微电子晶片之类的基材上提供所需的等密度偏置值。本发明特别优选的光刻胶是化学增强的正作用抗蚀剂，它除了酸反应组分以外，还包含酯基溶剂，例如乳酸乙酯或丙二醇甲醚乙酸酯。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201010291997.2无效
发明人：山口训史;金淳信;吉田勋;市川幸司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-09-21 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶组合物，其包含具有酸敏基团且不溶或难溶于碱性水溶液但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液中的树脂、产酸剂和式(I)表示的化合物：光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201010283695.0无效
发明人：市川幸司;坂本宏;杉原昌子;平冈崇志 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-09-14 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶组合物，包含产酸剂和树脂，所述树脂含有衍生自式(I)表示的单体的结构单元：
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201010276810.1无效
发明人：釜渊明;山下裕子 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-09-07 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶组合物，包含：树脂，其含有衍生自具有酸敏基团的化合物的结构单元，且其不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液，产酸剂，和式(I′)表示的化合物：其中R^51<
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201010250473.9无效
发明人：嶋田雅彦;市川幸司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-08-06 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式(a)所代表的化合物得到的结构单元：其中R¹代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN201010623818.0无效
发明人：山下裕子;安藤信雄 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-12-31 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶组合物，其包含：包含式(I)表示的结构单元的树脂和式(D’)表示的化合物：光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN97115414.7无效
发明人：俞昇濬;林翼喆;金昌昱;姜纪旭 -专利权人：三星电管株式会社
申请日： 1997-07-16 - 公布日： 2003-05-28 - 主分类号： G03F7/008 文献下载
摘要：含有光固化聚合物和光敏剂的光刻胶组合物，其中所述光敏剂包含至少两种选自4，4’-二叠氮基-2，2’-二苯乙烯二磺酸钠盐、4，4’-重氮-2，2’-二亚苄基丙酮二磺酸二钠盐、2，5-二(4-叠氮基-2-磺基亚苄基)环戊酮二钠盐和4，4’-二叠氮基-2，2’-二亚肉桂基丙酮磺酸盐的化合物。用光刻胶组合物进行石印术方法，可以缩短曝光时间，藉此提高产品的产量。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN02142219.2无效
发明人：金相奏;康升镇;成始震;末次益实;山田爱理 -专利权人：住友化学工业株式会社;东友法肯株式会社
申请日： 2002-08-26 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻胶组合物，具有优良的基质和光刻胶界面的紧密粘着性，解决了湿蚀刻中的问题，具有优良的敏感度和分辨率，并且具有优良的光刻胶性能，它含有公式(I)所表示的化合物；其中，R1和R2分别表示一个氢原子或者一个烷基
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN02116115.1无效
发明人： S·H·韦勒;R·W·考茨;R·K·巴尔 -专利权人：希普雷公司
申请日： 2002-04-19 - 公布日： 2002-12-11 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：公开了具有改进剥离性能的光可成象的组合物以及使用这些光可成象的组合物生产印刷电路板的方法。
光刻组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN99103239.X无效
发明人：落合钢志郎;福井信人 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 1999-03-26 - 公布日： 1999-10-06 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学放大型的光刻胶组合物,由下式(Ⅰ)表示的结构单元的树脂构成式中,R1,R2和R3各自单独表示氢原子或1至4个碳原子的烷基;R4表示氢原子、1至4个碳原子的烷基或1至4个碳原子的烷氧基和
光刻组合

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