专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]机床的倾斜装置-CN201710127472.7有效
  • 古畑铁朗;臼田敬介 - 株式会社捷太格特
  • 2017-03-06 - 2021-05-04 - B23Q1/00
  • 倾斜装置(100)具备:驱动马达(130),其赋予用于使倾斜体(120)摆动的驱动力;辅助汽缸(140),其与倾斜体(120)连结,并辅助基于驱动马达(130)的倾斜体(120)的摆动;以及控制装置(150在倾斜体(120)的可动范围,由于重力而产生于倾斜体(120)的绕摆动轴线的力矩总是仅沿旋转方向作用,通过汽缸压力赋予倾斜体(120)的绕摆动轴线的辅助力矩总是仅在与旋转方向相反的方向作用。控制装置(150)以使辅助力矩小于由于重力而产生于倾斜体(120)的力矩的方式使汽缸压力变动。
  • 机床倾斜装置
  • [发明专利]一种内置控制力矩陀螺的轮毂-CN201510996817.3在审
  • 韦鲲 - 韦鲲
  • 2015-12-25 - 2016-05-04 - B60B19/00
  • 本发明涉及一种内置控制力矩陀螺的轮毂,包括:轮辋、左轮辐、右轮辐和控制力矩陀螺,该控制力矩陀螺包括飞轮外壳端盖、飞轮、飞轮外壳以及驱动飞轮的飞轮电机,还包括控制系统,该控制系统基于DSP信号处理系统,通过传感器检测到车体或轮毂的倾斜速度和倾斜角度,为使车体保持平衡,使高速旋转的控制力矩陀螺产生力矩并通过车轴作用到车体框架上,从而迫使车体的倾斜程度得到纠正并恢复平衡状态。该轮毂能够在车身发生倾斜或者有侧翻倾向时,通过轮毂在车轴轴向对车体施加反力矩作用,从而减缓车体倾斜程度,提高了安全性。本轮毂也可以与放置在车体内的其他控制力矩陀螺配合使用,共同出力保持车体平衡。
  • 一种内置控制力矩陀螺轮毂
  • [实用新型]倾斜力矩的轴承摩擦力矩检测装置-CN201420535068.5有效
  • 赵坤 - 宁波慈兴轴承有限公司
  • 2014-09-17 - 2015-01-14 - G01L5/00
  • 本实用新型公开的带倾斜力矩的轴承摩擦力矩检测装置,包括一竖直设置的基板;一设置在所述基板上且位于所述基板的下部的用以检测测试轴承扭矩的扭矩检测部件;一设置在所述扭矩检测部件的顶端并依靠所述扭矩检测部件驱动旋转的用以承载测试轴承的扭力检测头一设置在所述基板上且位于所述扭力检测头正上方的用以向所述扭力检测头的顶面的中心位置施予竖直向下的压力的轴向加压部件;以及一设置在所述基板上且位于所述轴向加压部件一侧的用以向所述扭力检测头的顶面的边缘位置施予竖直向下的压力的倾斜加压部件本实用新型的有益效果在于:能够在带有倾斜力矩的情况下对轴承摩擦力矩进行检测的,而且检测数据准确,使用简单方便。
  • 倾斜力矩轴承摩擦检测装置
  • [发明专利]抛光头扣环倾斜力矩控制-CN202111199359.2在审
  • A·纳耿加斯特;S·M·苏尼加;J·古鲁萨米 - 应用材料公司
  • 2021-10-14 - 2022-04-15 - B24B37/34
  • 本文的实施例总体上涉及在电子器件的制造中使用的化学机械抛光(CMP)系统。在一个实施例中,用于抛光基板的表面的基板载体包括被配置成在抛光工艺期间包围基板的扣环。扣环包括:第一表面,该第一表面被配置成在抛光工艺期间与抛光垫的表面接触;第二表面,该第二表面在扣环的与第一表面相对的一侧上;以及在第二表面上形成的凹部的阵列。用于抛光基板的表面的基板载体还包括多个承载销,其中多个承载销中的每个承载销包括接触表面和具有长度的主体,并且多个承载销中的每个承载销的长度的至少部分设置在凹部的阵列中的每个凹部内,并且多个承载销中的每个承载销的接触表面在抛光工艺期间能相对于该承载销所设置在其中的凹部的表面进行定位。
  • 抛光扣环倾斜力矩控制
  • [发明专利]用于负载处理设备中的控制系统-CN03821806.2有效
  • R·A·布鲁克斯;P·乔伊特 - J.C.班福德挖掘机有限公司
  • 2003-07-02 - 2005-10-12 - B66F17/00
  • 一种用于包括负载处理设备(14)的机器(10)中的控制系统(40),负载(L)可在负载处理设备(14)作用下相对于机器的主体(12)运动,这种机器(10)包括负载(L)绕其产生倾斜力矩的枢轴(C),负载处理设备(L)包括致动器(24)并且能够将负载(L)移动至倾斜力矩处于预定阈值的位置上,这种控制系统(40)包括用于检测倾斜力矩并且在使用时向控制器(32)提供输入的传感器(30),控制器(32)响应于输入而影响致动器(24)的操作以便在如果传感器(30)检测到倾斜力矩的值正在接近阈值时,逐渐地减小负载(L)的运动速度。
  • 用于负载处理设备中的控制系统
  • [发明专利]光学元件的倾斜-CN201580042004.9有效
  • B.普尼尼-米特勒 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2015-07-28 - 2020-08-25 - G02B7/182
  • 支撑装置(111)包括支撑单元和促动器单元(113),其中,促动器单元(113)设计用于使光学表面倾斜,方式为通过促动器单元(113)在光学元件(109)上施加倾斜力矩(M1),其中,倾斜力矩(M1)倾斜于主延伸平面支撑单元(112)设计用于在光学表面由于促动器单元(113)的倾斜力矩(M1)倾斜时预设用于光学表面(109.1)的倾斜轴线(TA1、TA2),所述倾斜轴线基本上处于光学表面的主延伸平面(PME)中。
  • 光学元件倾斜

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