专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种浅层稠油油藏采油方法及采油系统-CN201110147575.2无效
  • 刘德铸;安九泉;陈延;孙振宇;彭松良;周立国;赵吉成 - 中国石油天然气股份有限公司
  • 2011-06-02 - 2011-10-12 - E21B43/24
  • 本发明公开了一种浅层稠油油藏采油方法,所述采油方法包括:设置水平和直,所述水平的水平段与所述直在同一油藏层位相连通,形成U;在水平内下入注汽管进行注汽,在注汽过程中,所述直处于关闭状态;注汽完毕后,进行在水平内进行焖,然后放喷;在放喷完成后,在所述直内下入举升管柱进行抽油生产。本发明还提供了一种浅层稠油油藏采油系统,至少包括水平和直,所述水平的水平段与所述直在同一油藏层位相连通,所述水平与所述直相连通形成U。在所述水平内设有注汽管,在所述直内设有举升管柱。本发明具有避免举升管柱管杆偏磨,提高泵效,并且减少闪蒸现象的优点。
  • 一种浅层稠油油采油方法系统
  • [发明专利]深沟渠式电容以及单晶体管静态随机存取内存单元的结构-CN200410007974.9有效
  • 郑钧文 - 联华电子股份有限公司
  • 2004-03-23 - 2005-09-28 - H01L27/11
  • 一种深沟渠电容内存单元结构,包含第一导电半导体基底,具有主表面;第二导电离子注入,具有接面深度,设于半导体基底的主表面上;栅极介电层,设于离子注入井上;栅极,设于栅极介电层上;第一导电重掺杂区,设于栅极一侧的离子注入中;第一导电轻掺杂区,设于栅极与该第一导电重掺杂区相反的另一侧的离子注入中;深沟渠电容,垂直主表面形成于该半导体基底内并向下深入超过离子注入接面深度至预定深度,该深沟渠电容包含离子外扩散,形成于沟渠电容下部,并与离子注入贯通连结,该深沟渠电容包含有多晶硅电极,由电容介电层及沟渠上端绝缘层与该第一导电轻掺杂区、该离子注入及该外扩散电性隔绝。
  • 深沟电容以及晶体管静态随机存取内存单元结构
  • [实用新型]一种人防工程风结构-CN202321059797.3有效
  • 魏婕;陈烽;周树锋;董飞;徐敏 - 中鑫建设集团有限公司
  • 2023-05-06 - 2023-10-27 - E04F17/04
  • 本实用新型涉及风结构技术领域,尤其涉及一种人防工程风结构。所述人防工程风结构包括通风竖井,所述通风竖井的一侧内壁设置有梯组件,且所述梯组件包括U扶手杆,U扶手杆设置有两根并对称嵌合在通风竖井的内壁上,U扶手杆的外杆壁上开设有T滑动槽;通风竖井靠近梯组件顶部的内壁上开设有安装腔,安装腔内安装有转动连接的轴杆,轴杆上缠绕有拉伸布,拉伸布的内布面与两侧U扶手杆相对应的位置上固定嵌合有若干颗均匀分布的T滑块。本实用新型提供的人防工程风结构设置的拉伸布可以避免梯组件因为长期受到受到通风竖井内气流或湿气的的侵蚀,降低了梯组件出现锈化的速率,延长了梯组件的使用寿命。
  • 一种人防工程结构
  • [发明专利]静电放电保护装置-CN201110384007.4有效
  • 陈科远;林志峰 - 威盛电子股份有限公司
  • 2011-11-28 - 2012-06-27 - H01L27/02
  • 一种静电放电保护装置,包括浮接的P半导体基板;第一通用N区形成于该P半导体基板中;第一通用N掺杂区形成于第一通用N区中;第一通用P掺杂区形成于第一通用N区中;第二通用N区形成于P半导体基板中;第二通用N掺杂区形成于第二通用N区中并连接参考电位节点;第二通用P掺杂区形成于第二通用N区中;第三通用P掺杂区形成于第一与第二通用N区之间,并连接第一通用N掺杂区与第二通用P掺杂区;以及多个周边N区形成于P半导体基板中,这些周边N区中具有P及N掺杂区,其中N掺杂区电性连接第一通用P掺杂区。
  • 静电放电保护装置

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