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[实用新型]一种低反射镀膜玻璃-CN201821133966.2有效
发明人：周群飞;陈立志 -专利权人：蓝思科技（长沙）有限公司
申请日： 2018-07-17 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种低反射镀膜玻璃，包括基板、设置于基板上的N层高折射率膜层和N层低折射率膜层，各层高折射膜层和各层低折射率膜层交替设置；高折射率膜层的厚度为10nm～120nm，低折射率膜层的厚度为20nm可见，本申请中通过高折射率膜层和低折射率膜层的交替设置降低反射率，并且通过将高折射率膜层的厚度设为10nm～120nm，低折射率膜层的厚度设为20nm～100nm，使本申请中的低反射镀膜玻璃相比于现有技术在410nm～430nm以及840nm‑860nm的波段内具有更低的反射率，从而在使用时能够提高成像画面的清晰度。
低折射率膜层高折射率膜层镀膜玻璃低反射交替设置反射率基板本实用新型折射率膜层成像画面折射膜波段申请

[发明专利]复合光学膜-CN200910170762.5无效
发明人：郗任远;林义文;赖政全;林淑铃 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2009-09-09 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：一种复合光学膜，包括第一膜层、第二膜层以及多个扩散结构。第一膜层包括入光面，并具有第一折射率。第二膜层具有第二折射率，设置于第一膜层上相对于入光面的另一面，其中第二折射率小于第一折射率。多个扩散结构设置于第一膜层及第二膜层的界面上。其中，扩散结构具有第三折射率，第三折射率介于第一折射率及第二折射率之间，且可选择性与第一折射率及第二折射率两者之一相等。
复合光学

[发明专利]夹层玻璃及抬头显示系统-CN202210047539.7有效
发明人：曹晖;何立山;黄凤珠;曾东;陈国富;张小荣;福原康太 -专利权人：福耀玻璃工业集团股份有限公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种夹层玻璃及抬头显示系统，包括内玻璃板、中间膜片和外玻璃板，内玻璃板的远离中间膜片的一侧设有用于反射P偏振光的第一透明纳米膜，其包括至少一个从内玻璃板表面向外依次沉积的高折射率材料层和低折射率材料层构成的叠层结构，内玻璃板和外玻璃板之间设有第二透明纳米膜，第二透明纳米膜包括介质层和导电层，且每个导电层均夹设在两个介质层之间；高折射率材料层的折射率≥1.9，低折射率材料层的折射率≤1.8，夹层玻璃在入射角为65°时的P偏振光反射率≥16％。本申请能够同时提高夹层玻璃的P偏振光反射率以及P偏振光反射光谱的平滑程度，能够提高采用夹层玻璃的抬头显示系统的亮度及显示舒适度。
夹层玻璃抬头显示系统

[发明专利]一种低反射率镀膜玻璃及制备方法-CN201910808560.2在审
发明人：赵永进;马轶先;邵长旭;郭伟 -专利权人：天津耀皮工程玻璃有限公司
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种低反射率镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述的玻璃基板片的两侧均设置有第一高折射率膜层，所述的第一高折射率膜层的上方均设置有第一低折射率膜层，所述的第一低折射率膜层的上方均设置有第二高折射率膜层，所述的第二高折射率膜层的上方均设置有第二低折射率膜层。本发明所述的低反射率镀膜玻璃通过调整高折射率材料和低折射率材料的膜层厚度使膜层外表面的反射光线尽可能的进行相消干涉，有效的降低了玻璃的可见光反射率；而且通过调整高折射率材料和低折射率材料的膜层厚度可以调整反射光线的中心波长的位置，在有效降低玻璃的可见光反射率的同时，进一步的调整反射光线干涉的位置，使玻璃体现不同的颜色。
高折射率膜层低折射率膜层反射光线膜层低折射率材料高折射率材料可见光反射率低反射率镀膜玻璃玻璃玻璃基板玻璃基片相消干涉中心波长干涉

[发明专利]一种高PID抗性多晶电池的钝化减反射膜及其制备工艺-CN201510122261.5有效
发明人：瞿辉;徐春;曹玉甲;张一源 -专利权人：江苏顺风光电科技有限公司
申请日： 2015-03-19 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本发明涉及一种高PID抗性的高效多晶电池的钝化减反射膜及其制备工艺，包括在单晶硅片衬底正面依次沉积的底层SiOx层、中间层SiOx层、中间层SiNx层以及顶层SiNx层；所述的底层SiOx层、中间层SiOx层、中间层SiNx层以及顶层SiNx层的总膜厚为65～120nm，折射率为1.9～2.25；所述的中间层SiNx层的膜厚为10～50nm，折射率为2.2～2.4；所述的顶层SiNx层的膜厚为30～80nm，折射率为1.9～2.2；所述的顶层SiNx层为单层或多层。采用本发明这种钝化减反射膜能够降低反射率，提高钝化效果，从而提高太阳电池效率，且具有非常优良的抗PID衰减特性。
一种高PID抗性多晶电池的钝化减反射膜及其制备工艺

[实用新型]一种高PID抗性多晶电池的钝化减反射膜-CN201520155435.3有效
发明人：瞿辉;徐春;曹玉甲;张一源 -专利权人：江苏顺风光电科技有限公司
申请日： 2015-03-19 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种高PID抗性多晶电池的钝化减反射膜，包括在单晶硅片衬底正面依次沉积的底层SiOx层、中间层SiOx层、中间层SiNx层以及顶层SiNx层；所述的底层SiOx层、中间层SiOx层、中间层SiNx层以及顶层SiNx层的总膜厚为65～120nm，折射率为1.9～2.25；所述的中间层SiNx层的膜厚为10～50nm，折射率为2.2～2.4；所述的顶层SiNx层的膜厚为30～80nm，折射率为1.9～2.2；所述的顶层SiNx层为单层或多层。采用本实用新型这种钝化减反射膜能够降低反射率，提高钝化效果，从而提高太阳电池效率，且具有非常优良的抗PID衰减特性。
一种 pid 抗性多晶电池钝化减反射膜

[实用新型]一种防眩光抗紫外镜片-CN202222977747.5有效
发明人：臧惠明 -专利权人：江苏奥天光学有限公司
申请日： 2022-11-09 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防眩光抗紫外镜片，其包括：树脂基片，树脂基片具有前光学凸面和后光学凹面；涂覆于树脂基片的加硬膜层；镀制于加硬膜层的第一低折射率膜层；镀制于第一低折射率膜层的氧化铟锡膜层；镀制于氧化烟锡膜层的第二高折射率膜层；镀制于第二高折射率膜层的氧化铝膜层；镀制于氧化铝膜层的第三低折射率膜层；镀制于第三低折射率膜层的二氧化硅膜层；镀制于二氧化硅膜层的第四高折射率膜层；镀制于第四高折射率膜层的抗紫外线膜层。本实用新型通过在树脂基片的表面设置多层低折射率和高折射率的膜层，同时配合氧化物膜层，完成镜片的增透减反射，减小杂散强光直射，同时抗紫外线膜层保护眼睛。
一种眩光紫外镜片

[发明专利]梯度折射率薄膜的制备方法-CN200910098784.5无效
发明人：章岳光;何俊鹏;沈伟东;刘旭 -专利权人：浙江大学
申请日： 2009-05-14 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明公开了一种梯度折射率薄膜的制备方法。它包括如下步骤：1)将高、低折射率材料前驱体分别放入反应前驱体容器；2)加热衬底，抽真空，开启镀膜机；3)沉积低折射率膜层；4)沉积高折射率膜层；5)交替沉积形成梯度折射率薄膜。本发明与现有技术相比具有的有益效果：1)本发明使用原子层沉积技术，通过控制两种材料的沉积工艺参数实现不同的折射率子层；2)采用交替沉积的方式，控制循环次数，工艺控制简单；3)两种膜料分别是高、低折射率膜料，沉积温度要相近；4)沉积子层的折射率可以是高、低折射率之间的任意折射率值；5)折射率子层是混合膜层，折射率大小可以通过控制交替沉积的两种膜料沉积比例控制。
梯度折射率薄膜制备方法

[发明专利]一种双消短波通膜系以及分色合色器-CN201510251260.0有效
发明人：顾培夫;艾曼灵;陶占辉 -专利权人：杭州科汀光学技术有限公司
申请日： 2015-05-15 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种双消短波通膜系以及分色合色器，一种双消短波通膜系，包括依次设置在所述基板上的导纳匹配膜系、第一主膜系和第二主膜系；导纳匹配膜系由中间折射率膜和低折射率膜交替组成；第一主膜系由高折射率膜、中间折射率膜和低折射率膜组成；第二主膜系由高折射率膜和低折射率膜交替组成；高折射率膜为TiO₂膜或Nb₂O₅膜，中间折射率膜为Al₂O₃膜或MgO膜，低折射率膜为SiO₂膜。双消短波通膜系应用在光学滤波器以及分色合色器上，能够消短波通带残余反射和消s-、p-偏振光过渡波长分离，提高显示图像的亮度、清晰度和色饱和度。
一种短波通膜系以及分色合色器

[发明专利]镀有减反膜系的光学镜片及光学镜头-CN201910574391.0在审
发明人：余荣军;蒯泽文;蔡沛峰 -专利权人：浙江舜宇光学有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明涉及一种镀有减反膜系的光学镜片，包括：基材(1)、减反膜(2)和镜片；所述减反膜(2)由多层交替层叠的第一折射率膜层(H)和第二折射率膜层(L)构成；所述减反膜(2)镀制在所述基材(1)的表面上的膜层为第一折射率膜层(H)或者第二折射率膜层(L)；所述减反膜(2)远离所述基材(1)最外侧的膜层为第一折射率膜层(H)或者第二折射率膜层(L)；其中每个所述第一折射率膜层(H)的折射率n1满足：2.0≤n1≤4.0，每个所述第二折射率膜层(L)的折射率n2满足：1.4≤n2≤2.0。本发明的减反膜系结构可以在降低可见光区域的光线反射率的同时，充分降低近红外区域光线反射率。
折射率膜层基材光学镜片折射率膜层膜系近红外区域光线光线反射率可见光区域多层交替光学镜头膜系结构反射率镜片镀制

[实用新型]镀有减反膜系的光学镜片及光学镜头-CN201920992732.1有效
发明人：余荣军;蒯泽文;蔡沛峰 -专利权人：浙江舜宇光学有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀有减反膜系的光学镜片，包括：基材(1)、减反膜(2)和镜片；所述减反膜(2)由多层交替层叠的第一折射率膜层(H)和第二折射率膜层(L)构成；所述减反膜(2)镀制在所述基材(1)的表面上的膜层为第一折射率膜层(H)或者第二折射率膜层(L)；所述减反膜(2)远离所述基材(1)最外侧的膜层为第一折射率膜层(H)或者第二折射率膜层(L)；其中每个所述第一折射率膜层(H)的折射率n1满足：2.0≤n1≤4.0，每个所述第二折射率膜层(L)的折射率n2满足：1.4≤n2≤2.0。本实用新型的减反膜系结构可以在降低可见光区域的光线反射率的同时，充分降低近红外区域光线反射率。
镀有减反膜系光学镜片光学镜头

[发明专利]透明导电膜层叠用膜、其制造方法及透明导电性膜-CN201310158896.1有效
发明人：荒添铁也;大类知生;所司悟 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2013-03-01 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种透明导电膜层叠用膜，其包含透明基体材料、(A)低折射率层和(B)高折射率层，其特征在于，在上述透明基体材料的至少一面层叠上述(A)低折射率层，在上述(A)低折射率层上进一步层叠上述(B)高折射率层，上述(B)高折射率层的折射率比上述(A)低折射率层的折射率高0.2以上。根据本发明的透明导电膜层叠用膜，提供在可见光的短波长区域的透射率高、透明导电膜的层叠部分不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及用于提供上述透明导电性膜的透明导电膜层叠用膜
透明导电层叠制造方法导电性

[发明专利]成像光学镜头、取像装置及电子装置-CN202211061380.0在审
发明人：蔡温祐;张建邦;蔡承谕;邓钧鸿;朱国强 -专利权人：大立光电股份有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本揭示内容提供一种成像光学镜头、取像装置及电子装置，成像光学镜头包含至少一光学镜片，光学镜片包含一抗反射膜，抗反射膜包含一高低折射率膜与一渐变折射率膜，高低折射率膜配置在光学镜片与渐变折射率膜之间。高低折射率膜包含至少一高折射率膜层与至少一低折射率膜层，高折射率膜层与低折射率膜层交替堆叠配置。渐变折射率膜包含多个孔洞，远离光学镜片的孔洞相对大于靠近光学镜片的孔洞。通过在成像光学镜头表面制镀均匀致密的抗反射膜，使光学镜片具显著抗氧化能力，有助于达到广域波长范围的抗反射效果，以满足需具有高成像品质的成像光学镜头。
成像光学镜头装置电子

[实用新型]成像光学镜头、取像装置及电子装置-CN202222313547.X有效
发明人：蔡温祐;张建邦;蔡承谕;邓钧鸿;朱国强 -专利权人：大立光电股份有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本揭示内容提供一种成像光学镜头、取像装置及电子装置，成像光学镜头包含至少一光学镜片，光学镜片包含一抗反射膜，抗反射膜包含一高低折射率膜与一渐变折射率膜，高低折射率膜配置在光学镜片与渐变折射率膜之间。高低折射率膜包含至少一高折射率膜层与至少一低折射率膜层，高折射率膜层与低折射率膜层交替堆叠配置。渐变折射率膜包含多个孔洞，远离光学镜片的孔洞相对大于靠近光学镜片的孔洞。通过在成像光学镜头表面制镀均匀致密的抗反射膜，使光学镜片具显著抗氧化能力，有助于达到广域波长范围的抗反射效果，以满足需具有高成像品质的成像光学镜头。
成像光学镜头装置电子

[发明专利]一种高折射率氮化硅减反射膜的制作方法-CN201310622895.8无效
发明人：朱金浩 -专利权人：浙江光隆能源科技股份有限公司
申请日： 2013-11-30 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种高折射率氮化硅减反射膜的制作方法，其是在经过清洗制绒、扩散、刻蚀后的晶体硅片上表面依次镀一层折射率为2.10～2.15的高折射率氮化硅减反射膜、一层折射率为2.25～2.30的高折射率氮化硅减反射膜和再一层折射率为2.00～2.05的低折射率减反射膜而获得由三层氮化硅减反射膜组成的高折射率氮化硅减反射膜，其折射率为2.12～2.16。本发明制作的高折射率减反射膜，能满足电池组件抗PID的要求；而且，与传统高折射率减反射膜工艺相比，成品转换率提升0.05%以上，成品开路电压提升1mV，短路电流提升30mA左右。
一种折射率氮化减反射膜制作方法