[发明专利]用于光存储介质的原状基体以及制造该基体的方法无效
| 申请号： | 99806816.0 | 申请日： | 1999-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN1146894C | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | 兰纳特·奥尔森 | 申请（专利权）人： | 奥博杜卡特股份公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G11B23/00;//B29D17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 在用于制作光存储介质的基体的制造方法中，形成一个盘状基体主体。然后通过在基体主体上从基体主体中心部分开始旋涂聚合物而将抗蚀剂涂覆层施加到基体主体的一个面上，以形成一个用于基体的坯件。最后，较佳地通过对基体主体中心部分冲孔，在基体主体中形成一个开口，从而形成一个原状基体，它具有从开口边缘延伸的抗蚀剂涂覆层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 存储 介质 原状 基体 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作光存储介质的基体的制造方法，其特征在于包括步骤：形成一个盘状基体主体，通过在基体主体上从基体主体的中心部分开始旋涂聚合物而在基体主体的一面上施加抗蚀剂涂覆层，以及在所述施加步骤之后，通过移去中心部分，较佳地通过对基体主体的中心部分冲孔，而在具有抗蚀剂涂覆层的基体主体中形成一个中心开口。
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