[发明专利]链烯和乙烯基芳族单体的共聚合方法

摘要

本发明系关于至少一种α－链烯和至少一种乙烯基芳族单体的共聚合方法。共聚是在一包括至少一种助催化剂和一种还原过渡金属配合物的催化剂组合物的存在下进行的。该还原过渡金属配合物含有一种选自元素周期表的第4—6族元素的还原过渡金属、一种多齿单阴离子配位体和至少两种单阴离子配位体。在一个实施方案中,钛被选作还原过渡金属。

主权项

1．一种共聚合方法，包括在一包含还原过渡金属配合物和助催化剂的催化剂存在下，将至少一种α-链烯和至少一种乙烯基芳族单体进行共聚，其中所述还原过渡金属配合物具有下列结构：式中：M 为选自元素周期表第4、5或6族元素的还原过渡金属；X 为具有通式(Ar-Rt-)sY(-Rt-DR′n)q的多齿单阴离子配位体；Y 为选自环戊二烯基、胺基(-NR＇-)和膦基(-PR＇-)的一员；R 为选自(ⅰ)Y基和OR′n基之间的连接基团与(ⅱ)Y基和Ar基之间的连接  基团两者中至少一个成员，其中当配位体X含有一个以上R基时，  这些R基可相同也可不同；D 为选自元素周期表第15或16族元素的供电子杂原子；R′为选自氢、烃基和含杂原子的基团的一取代基，其中的例外是当R′  直接与供电子杂原子D键接时R′不能为氢，且当多齿单阴离子配位  体X含一个以上取代基R′时，这些R′取代基可相同也可不同；Ar为供电子芳基；L  为与还原过渡金属M键接的单阴离子配位体，其中单阴离子配位体L   不是一包括环戊二烯基、胺基(-NR＇-)或膦基(-PR′)的配位   体，且单阴离子配位体L可相同也可不同；K 为与还原过渡金属M键接的中性或阴离子配位体，其中当过渡金属  配合物含有一个以上配位体K时，配位体K可相同也可不同；m 为K配位体的数目，其中当K配位体为阴离子配位体时m对于M3+、  M4+和M5+分别为0、1和2，而当K为中性配位体时m对每个中  性K配位体增加1；n 为与供电子杂原子D键接的R＇基团的数目，其中当D选自元素周期  表第15族元素时n为2，而当D选自元素周期表第16族元素时n  为1；q 和s分别为与Y键接的(-Rt-DR′n)基团和(Ar-Rt-)基团的数目，      其中q+s为不小于1的整数；及t 为连接(ⅰ)Y和Ar基团与(ⅱ)Y和DR′n基团两种情形中的每一种情形的R  基数目，其中t可独立地选为0或1。