[发明专利]无刻蚀低温铁锰合金镀电解液无效

专利信息
申请号: 97112521.X 申请日: 1997-07-09
公开(公告)号: CN1054659C 公开(公告)日: 2000-07-19
发明(设计)人: 王振田 申请(专利权)人: 王振田
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56
代理公司: 盘锦市专利事务所 代理人: 张亚安
地址: 124200*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种无刻蚀低温铁锰合金镀电解液,属于电化学氧化还原反应,适用于电镀行业。根据锰含量提高具有耐磨性和抗磁性等优势,在电解液中加入锰铁粉,使零部件的镀层硬度、耐磨、热稳定等性能明显地提高,适用现代化机械零部件技术要求,实现金属键结合高强度的钢化镀层达到零件表面镀复的目的。
搜索关键词: 刻蚀 低温 合金 电解液
【主权项】:
1、一种无刻蚀低温铁锰合金镀电解液,主要用以下原料配制:三氯化铁250-350克/升盐酸15-25克/升(36%含量)净化水800-900克/升五氧化二钒0.8-0.9克/升硼酸0.5-0.6克/升碘化钾0.3-0.4克/升氯化钠0.7-0.8克/升碘0.1-0.2克/升,其特征在于每升电解液中加入80-100克的锰铁粉,锰铁粉中锰的含量为40-60%。
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