[发明专利]多覆层盘聚焦方法和装置无效
| 申请号： | 96111909.8 | 申请日： | 1996-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1103096C | 公开（公告）日： | 2003-03-12 |
| 发明（设计）人： | 金烙锡 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/00 | 分类号： | G11B7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马莹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种以相同的速度和可靠性在一多覆层盘上聚焦的方法和装置，该方法和装置采用的步骤包括对第一层，首先快速减小聚焦致动器电压以降低所述物镜，慢速升高聚焦致动器电压以提升物镜，并且根据聚焦误差信号的检测状态来在第一层上聚焦；而对第二层，快速升高聚焦致动器电压以提升物镜，慢速减小聚焦致动器电压以降低物镜，并且根据聚焦误差信号的检测状态来在第二层上聚焦。 | ||
| 搜索关键词： | 覆层 聚焦 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在一多覆层盘的第一层或第二层上聚焦的方法，它通过随聚焦致动器电压的变化来提升或降低物镜，按照呈S曲线的聚焦误差信号的过零点的检测结果来进行聚焦，所述方法包括下列步骤：迅速降低所述聚焦致动器电压以使所述物镜下降(4b)；慢速升高所述聚焦致动器电压以使所述物镜缓慢提升(4c)；并且检测所述聚焦致动器电压的过零点(4d)从而聚焦在所述第一层上(4e)；迅速升高所述聚焦致动器电压以使所述物镜提升(6f)；慢速降低所述聚焦致动器电压以使物镜缓慢下降(6g)；并且检测所述聚焦致动器电压的过零点(6h)从而来聚焦在所述第二层上(4e)。
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