[发明专利]电解退镀金属表面镍层和铜镍铬层的方法无效

专利信息
申请号: 96106005.0 申请日: 1996-05-08
公开(公告)号: CN1055141C 公开(公告)日: 2000-08-02
发明(设计)人: 张贺林 申请(专利权)人: 张贺林
主分类号: C25F5/00 分类号: C25F5/00
代理公司: 北京市汇泽专利商标事务所 代理人: 赵军
地址: 30180*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明为一种电解退镀金属表面镍层和铜镍铬层的方法,该方法所采用的电解液配比为铬酐(CrO3)120—160g/l,磷酸(H3PO4)450—650g/l,硼酸(H3BO3)10—20g/l,电解退镀时,阳极为退件,阴极为铅锑板或废钛栏,电流密度为10—20A/DM2,电压为6—12V,电解液温度控制在室温-70℃,阴阳极面积比为2—3∶1。本发明的优点是改进了退镀的产品质量,降低了电解退镀成本,解决了残次品的回用问题,减少污染,使废稀铬酸得到充分利用。
搜索关键词: 电解 镀金 表面 铜镍铬层 方法
【主权项】:
1.一种电解退镀金属表面镍层和铜镍铬层的方法,其特征在于所采用的电解液配比为:铬酐(CrO3)120-160g/l磷酸(H3PO4)450-650g/l硼酸(H3BO3)10-20g/l电解退镀时,阳极为退件,阴极为铅锑板或废钛栏,电流密度为10-20A/DM2,电压为6-12V,电解液温度控制在室温-70℃,阴阳极面积比为2-3∶1。
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