[发明专利]用液相外延法制造氧化物单晶膜的装置无效
| 申请号： | 95104010.3 | 申请日： | 1995-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN1041224C | 公开（公告）日： | 1998-12-16 |
| 发明（设计）人： | 藤野优;鹰木洋 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | C30B19/00 | 分类号： | C30B19/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 徐汝巽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用液相外延法制造氧化物单晶膜的装置，它包括一个外侧有高频加热装置的炉管，一个装在炉管内的两端开口的导电圆筒，和一个与圆筒元件同轴放置的由导电材料制成的坩埚。 | ||
| 搜索关键词： | 用液相 外延 法制 氧化物 单晶膜 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用液相外延法制造氧化物单晶膜的装置，它包括一个炉管(1)，一个装在炉管(1)中用来盛放氧化物单晶膜原料的坩埚(6)，以及一个用来加热所述坩埚(6)内原料的加热装置，其特征在于：所述装置还包括一个装在炉管(1)内的两端开口的导电圆筒元件(12)，所述炉管(1)由绝缘材料制成，和所述的加热装置由安装在所述炉管(1)的外侧的高频感应加热装置(11)构成，它通过感应加热来加热所述导电圆筒元件(12)，所述坩埚(6)放置在导电圆筒元件(12)中，并由所述导电圆筒元件(12)发出的辐射热加热。
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