[实用新型]真空紫外光学系统的调节机构有效

专利信息
申请号: 202320207352.9 申请日: 2023-02-07
公开(公告)号: CN219435113U 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 邹艳霞;赵天琦;金尚忠;占春连;方彬 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00;G02B7/198
代理公司: 杭州钤韬知识产权代理事务所(普通合伙) 33329 代理人: 金丹丹
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种真空紫外光学系统调节机构。包括:光学组件和调节机构,调节机构用于支撑光学组件并可供调节光学组。调节机构包括:调节支撑件、连接光学组件和底座,形成有一个容纳空间。调节支撑件至少部分设置在容纳空间内;基座,可供底座连接并封闭至少部分的容纳空间;调节板,位于容纳空间内并至少部分设置在调节支撑件和底座之间;调节板形成有一个调节孔,调节支撑件至少部分穿过调节孔并能在调节孔内自由运动;调节板包括允许调节支撑件运动的第一状态和限制调节支撑件运动的第二状态;当调节板处于第一状态时,调节支撑件能在调节孔内自由运动;当调节板处于第二状态时,调节支撑件被调节板限位。该真空紫外光学系统的调节机构操作方便,可以平移、旋转,方便进行光学系统的调节。
搜索关键词: 真空 紫外 光学系统 调节 机构
【主权项】:
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