[发明专利]电解用降低氧化层反射率的加工方法及系统在审
申请号: | 202311194116.9 | 申请日: | 2023-09-15 |
公开(公告)号: | CN116926641A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 刘秋华;王宝;李小建;郑和开 | 申请(专利权)人: | 深圳市欣茂鑫实业有限公司 |
主分类号: | C25D11/02 | 分类号: | C25D11/02;C25D11/14 |
代理公司: | 深圳市朝闻专利代理事务所(普通合伙) 44454 | 代理人: | 原程 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区坪地街道六联社区鹤坑三棵松工*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提出了一种电解用降低氧化层反射率的加工方法及系统,该方法包括:采集初始电解工件表面的初始反射率R0;当R0>Ra时,将第一反射率R1与预设标准反射率Ra进行比对后,确定是否继续对第一电解条件进行调整,当R1>Ra时,将第二反射率R2与预设标准反射率Ra进行比对,当R2>Ra时,对R0、R1和R2与Ra之间的差值比对结果进行判断。本发明能够有效地根据工件表面的反射率的变化及时地调整电解条件,通过不同的电解条件或者不同反射率的电解工件,从而能够有效地降低后续工件的反射率,不仅能够对电解着色的工件表面的反射率进行有效地控制,还能够极大的提高了工件的电解着色效率。 | ||
搜索关键词: | 电解 降低 氧化 反射率 加工 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市欣茂鑫实业有限公司,未经深圳市欣茂鑫实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202311194116.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。