[发明专利]基于透光单元阵列的背光光学系统及投影显示系统在审
| 申请号： | 202311092565.2 | 申请日： | 2023-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN116794920A | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 罗豪;李伟;张文君;李雨雪 | 申请（专利权）人： | 上海理湃光晶技术有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/01 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张柳 |
| 地址： | 200336 上海市长宁区延安*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于透光单元阵列的背光光学系统及投影显示系统，涉及光学系统领域，背光光学系统包括光源部、透光单元阵列和匀光层，光源部用于出射至少两种原色光，使出射光入射至透光单元阵列，透光单元阵列设置于光源部的出光一侧，透光单元阵列的任一透光单元用于将入射至本透光单元的光以发散形式出射，与其它至少一个透光单元的出射光至少部分交叠，匀光层设置于透光单元阵列的出光一侧，使得透光单元阵列的各个透光单元的出射光入射至匀光层并在匀光层内散射，使得各个透光单元的出射光混合并从匀光层出射，以将匀光层作为背光光学系统的次级光源。本发明基于透光单元阵列的背光光学系统能够在出射光的颜色均匀性较好的同时体积较小。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 透光 单元 阵列 背光 光学系统 投影 显示 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理湃光晶技术有限公司，未经上海理湃光晶技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202311092565.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
