[发明专利]驱动机构、晶片表面清理设备及抛光设备在审

专利信息
申请号: 202311042729.0 申请日: 2023-08-18
公开(公告)号: CN116787253A 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 朱亮;李阳健;陈道光;罗洪吉;夏希林 申请(专利权)人: 浙江求是半导体设备有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B55/06;B24B49/12;B24B53/017
代理公司: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 代理人: 梅景荣
地址: 311100 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种驱动机构、晶片表面清理设备及抛光设备,驱动机构包括转料驱动件、输出轴、轮体支架和从动轮,输出轴连接于转料驱动件并能够转动,从动轮转动安装于轮体支架,输出轴及/或从动轮套设有可弹性形变的蓄水套,蓄水套在受压状态下释放液体。蓄水套能够在晶片边缘的压力作用下被加压,从而排出具有一定初速度的液体,因此可以利用从蓄水套中排出的液体清洗晶片的外周边缘,更好地清除晶片表面的杂质及晶粒残留,提高了晶片的清洗质量;此外,蓄水套可以对晶片起到一定的缓冲减震作用,降低晶片受震荡冲击而损坏的概率,有利于提高晶片的良品率。
搜索关键词: 驱动 机构 晶片 表面 清理 设备 抛光
【主权项】:
暂无信息
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