[发明专利]一种氟化钙原料表面去杂方法及其装置有效
| 申请号： | 202310966513.7 | 申请日： | 2023-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN116673273B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 洪冬梅;闫娜娜;刘多 | 申请（专利权）人： | 北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳维启专利代理有限公司 44827 | 代理人： | 刘昭福 |
| 地址： | 101300 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请涉及一种氟化钙原料表面去杂方法及其装置，涉及原料提纯技术领域，一种氟化钙原料表面去杂方法包括以下步骤：S1、将块状原料置于密闭空间内；S2、向块状原料发射等离子体，使等离子体轰击块状原料上的杂质面；S3、维持密闭空间的低压环境并向密闭空间内持续通入惰性气体；S4、多次改变等离子体的能量强度，并使改变能量强度后的等离子体轰击块状原料上的杂质面；S5、将块状原料从密闭空间内取出。本申请中杂质面内的杂质离子经等离子体轰击后被激发而挥发，挥发出来的杂质离子经惰性气体携带出密闭空间，去杂过程中没有新的杂质引入到块状原料上，具有去杂效果更好的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氟化钙 原料 表面 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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