[发明专利]全息投影曝光系统在审
| 申请号： | 202310899449.5 | 申请日： | 2023-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN116819905A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 夏必忠;李行健;苏俏竹;马建设;苏萍 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳国际研究生院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人： | 曾昭毅 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请提供一种全息投影曝光系统，包括：照明光源，用于发射光源光；滤波调制组件，位于所述光源光的光路上，用于将所述光源光调制为参考光出射，所述参考光为会聚的球面波；空间光调制器，位于所述参考光的光路上，用于接收全息图信息，并根据所述全息图信息调制接收到的参考光的振幅，以出射照明光，所述照明光为会聚的球面波；以及控制器，电连接所述空间光调制器，用于加载所述全息图信息至所述空间光调制器，以控制所述空间光调制器对所述参考光的调制方式；所述照明光照射待加工材料时，在所述待加工材料的曝光面形成对应所述全息图信息的光斑图案，以对所述待加工材料进行曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 全息 投影 曝光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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