[发明专利]吡啶类两性离子化合物及其制备方法在审
| 申请号： | 202310888308.3 | 申请日： | 2023-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN116924968A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 曾艺安;毛冲;王霹霹;冯慧涛;莫德欢;潘东优;谢金鑫;戴晓兵;冯攀;韩晖 | 申请（专利权）人： | 合肥市赛纬电子材料有限公司;珠海市赛纬电子材料股份有限公司;淮南市赛纬电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C07D213/02 | 分类号： | C07D213/02 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 杨小慧 |
| 地址： | 231551 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明公开了一种吡啶类两性离子化合物及其制备方法，其中制备方法的步骤包括：(1)将式1和第一溶剂于一定温度下混合均匀形成第一溶液；(2)将第二溶液滴加到第一溶液中，第二溶液由异氰酸酯类化合物和第一溶剂经混合均匀形成；(3)将步骤(2)反应结束后的产物进行处理得到吡啶类两性离子化合物；#imgabs0#R |
||
| 搜索关键词： | 吡啶 两性 离子 化合物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥市赛纬电子材料有限公司;珠海市赛纬电子材料股份有限公司;淮南市赛纬电子材料有限公司，未经合肥市赛纬电子材料有限公司;珠海市赛纬电子材料股份有限公司;淮南市赛纬电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310888308.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
