[发明专利]一种基于高双折射率液晶的聚合物电磁屏蔽材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310843337.8 申请日: 2023-07-11
公开(公告)号: CN116887591A 公开(公告)日: 2023-10-13
发明(设计)人: 苗宗成 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;C08J7/00;C08J5/18;C08L29/04;C08K3/04
代理公司: 西安众和至成知识产权代理事务所(普通合伙) 61249 代理人: 强宏超
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开一种基于高双折射率液晶的聚合物电磁屏蔽材料及其制备方法,在制备的电磁屏蔽基体材料中加入高双折射率液晶材料得到聚合物电磁屏蔽材料;利用高双折射率液晶材料与聚乙烯醇的复合物作为基体,利用高双折射率液晶材料的高介电各向异性,可有效提高基体的介电性能。同时,利用液晶材料良好的取向性能,使得基体中晶分子形成有序的排列,进一步增加了基体的介电性能;利用高双折射率液晶材料与聚乙烯醇的复合物作为基体可有效提高材料的电磁屏蔽性能;本发明制备方法简单、条件温和,制备工程中无三废排放,符合现代化工生产的需求。
搜索关键词: 一种 基于 双折射 液晶 聚合物 电磁 屏蔽 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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