[发明专利]一种采用低温等离子和222纳米紫外光技术的消杀通道在审
| 申请号： | 202310754764.9 | 申请日： | 2023-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN116747328A | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 吴维伟;朱欣子;周赞 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | A61L2/10 | 分类号： | A61L2/10;A61L2/14;A61L2/24;A61L2/26 |
| 代理公司： | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人： | 霍从芳 |
| 地址： | 321000 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种采用低温等离子和纳米紫外光技术的消杀通道，包括通道本体、纳米紫外线消杀机构和排风机构，通道本体外部底端两侧均开设有多个进风口，通道本体内部的顶面与两侧面均设置多个纳米紫外线消杀机构，通道本体的上方固定连接有红外感应装置，通道本体的外侧固定连接有显示屏，通道本体对应纳米紫外线消杀机构处均开设有矩形槽；通过通道本体上方有红外感应装置，用户进入户红外感应装置范围内，灯管亮灯开始工作，使得通道内部充满低温等离子，用户走完通道本体后，该两项消杀技术净化人体表面，在此期间，使用者不需要任何操作，由此可做到，作为方便和快捷的消杀方式。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 低温 等离子 222 纳米 紫外光 技术 通道 | ||
【主权项】：
暂无信息
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