[发明专利]一种基于纳米粒子单层阵列的光刻掩膜制造方法

摘要

一种基于纳米粒子阵列的光刻掩膜的制造方法，利用喷墨打印可控的水滴阵列，在水滴阵列表面分别对准喷打所需不同直径纳米粒子阵列，纳米粒子分散液与水滴不互溶，在水滴表面上形成纳米粒子单层膜，加热干燥后形成纳米粒子单层阵列，然后将纳米粒子单层阵列转移至柔性透明基底；通过调控不同位置水滴表面喷墨打印的纳米粒子胶体材料和直径，形成制造复杂微纳结构阵列多尺寸的基于纳米粒子单层阵列的光刻掩膜；本发明通过喷墨打印定域制造不同直径的纳米粒子单层阵列组合，突破了纳米粒子阵列掩膜只能制造单一形貌结构的限制，形成了工艺简单、高效，可控的纳米粒子单层阵列制造技术。