[发明专利]基于双焦透镜的远场基准装置及远场准直方法在审
| 申请号： | 202310618295.8 | 申请日： | 2023-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN116661162A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 唐顺兴;郭亚晶;宗楠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B27/30 | 分类号： | G02B27/30 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于双焦透镜的远场基准装置。光束通过双焦透镜后，在图像探测器上获得两种角度放大率的光斑。通过低角度放大率的主光斑以实现数毫弧度的观察视场，高角度放大率的次光斑以保证微弧度的准直精度，兼顾了高精度与大视场，集成该双焦透镜镜头的一套成像系统即可满足远场准直的需求，极大降低了远场自动准直的复杂度及对精密装调和机械结构长期稳定性的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 透镜 基准 装置 远场准直 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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