[发明专利]一种晶圆级二维材料的洁净转移方法在审

专利信息
申请号: 202310603143.0 申请日: 2023-05-25
公开(公告)号: CN116621167A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 张永娜;姜浩;李占成;石彪;史浩飞 申请(专利权)人: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院;重庆大学
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194;C01B32/184;B82Y40/00
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 廖曦
地址: 400714 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及一种晶圆级二维材料的洁净转移方法,属于二维材料转移技术领域。具体方法为:在铜层上旋涂制备聚合物薄膜,再利用电化学法分离出聚合物薄膜,随后采用铜箔/二维材料衬底将其捞取获得聚合物薄膜/二维材料/铜箔,刻蚀法去除铜箔后以目标衬底捞取获得聚合物薄膜/二维材料/目标衬底,最后采用硅胶膜物理粘附去除聚合物薄膜获得二维材料/目标衬底,从而实现二维材料的洁净转移。该方法采用含大侧基官能团的丙烯酸酯类聚合物作转移介质,通过预制聚合物薄膜并结合硅胶膜物理去除聚合物薄膜,削弱了聚合物薄膜与二维材料间的相互作用力,避免了聚合物在二维材料表面的残留,转移的二维材料具有表面干净、均匀完整、聚合物残留少的特点。
搜索关键词: 一种 晶圆级 二维 材料 洁净 转移 方法
【主权项】:
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