[发明专利]基于承载台的套刻精度修正方法在审
| 申请号： | 202310580502.5 | 申请日： | 2023-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN116577968A | 公开（公告）日： | 2023-08-11 |
| 发明（设计）人： | 袁海文;尹鹏腾;秦利鹏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 张子飞 |
| 地址： | 201314*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于承载台的套刻精度修正方法，包括：获取承载台表面的历史翘曲度数据及与其对应的基板在承载台上光刻后的历史套刻精度数据；构建历史翘曲度数据与历史套刻精度数据的映射关系，映射关系包括由承载台的翘曲度在基板的不同区域获得不同的套刻精度；检测承载台的翘曲度，根据映射关系，获得置于承载台上基板的不同区域的预测套刻精度，并基于预设套刻精度在基板上的不同区域选择相应的套刻精度补偿。本发明中，通过检测承载台翘曲度，利用映射关系对光刻时基板不同区域进行套刻精度补偿，不仅提高光刻工艺时的套刻精度，还可使载物台的使用寿命相对延长，以此降低成本及提高机台利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 承载 精度 修正 方法 | ||
【主权项】：
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