[发明专利]低浓度H2在审

专利信息
申请号: 202310541560.7 申请日: 2023-05-15
公开(公告)号: CN116409888A 公开(公告)日: 2023-07-11
发明(设计)人: 李国炜;马华;曹兴鸿;王茜茹;李哲;李圣奥;崔福义 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: C02F3/34 分类号: C02F3/34
代理公司: 重庆大学专利中心 50201 代理人: 唐开平
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种低浓度H202与细菌组合抑藻药剂和该抑藻药剂的应用,属于水华污染治理技术领域。该抑藻药剂包含过氧化氢和抑藻细菌及LB抑藻细菌培养基。该抑藻药剂用于抑制铜绿微囊藻生长,包括步骤1、向水体加入过氧化氢,投加过氧化氢在水体中含量为600~1000nM;步骤2、在加入过氧化氢3‑7天后,向水体添加抑藻细菌,投加抑藻细菌在水体中的浓度为300~500ml/L,以LB培养基体积计,在投加抑藻细菌时包含LB抑藻细菌培养基。本发明的技术效果是:提高了蓝藻抑制率,且除藻环保、快速。
搜索关键词: 浓度 base sub
【主权项】:
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