[发明专利]一种用于测定瓷砖外照射剂量的基片及其制备方法在审
| 申请号： | 202310539902.1 | 申请日： | 2023-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN116444248A | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 廖丽肖;李强;唐奇;吴飞翔;尹水龙;罗斌;吴兰;唐松林;吴俊斌 | 申请（专利权）人： | 广东特地陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | C04B33/13 | 分类号： | C04B33/13;C04B35/00;C04B35/622;C04B33/24;C04B38/06;G01T1/02 |
| 代理公司： | 广州一锐专利代理有限公司 44369 | 代理人： | 周升铭 |
| 地址： | 528000 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于测定瓷砖外照射剂量的基片及其制备方法，包括以下原料：瓷砖原料、辅助原料、多孔材料、助剂、催化剂、去离子水；其具体配方包括以下原料：瓷砖原料100‑200g、辅助原料30‑50g、多孔材料50‑100g、助剂5‑10g、催化剂5‑10g、去离子水50‑100g；本发明的基片在酒精中超声清洗，可以更好的除去残留的多孔材料杂质，使陶瓷基片更加的纯净，通过将瓷砖原料、辅助原料与助剂、催化剂、去离子水混合，并通过多孔材料进行吸收，不需要进行粉碎，可直接放置于溶液中进行反应，从而实现快速对瓷砖外照射指数的测定，且操作简单易于实现，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 测定 瓷砖 照射 剂量 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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