[发明专利]一种基于光场耦合的超薄激光晶体化学机械抛光液及其制备、抛光方法在审
| 申请号： | 202310428565.9 | 申请日： | 2023-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN116463061A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 高尚;康仁科;张笑宇;董志刚;郭星晨 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04;B24B53/017;B24B37/10 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 修睿;李洪福 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于光场耦合的超薄激光晶体化学机械抛光液及其制备、抛光方法。所使用的抛光液包含A、B两组分，A组分由氧化剂、磨料、分散剂和去离子水构成，B组分由紫外光光催化剂和去离子水构成。实验设置表现为抛光盘转速60‑80r/min，抛光压力20‑40KPa，抛光液流速6‑10ml/min，紫外光照射，A、B组分以相同流速滴加到抛光垫上。经此抛光方法加工后的激光晶体，表面粗糙度为Ra0.15‑0.3nm，面型精度PV值为λ/7(λ＝632.8nm)，材料去除率可达26nm/min，加工后的晶体表面无划痕及明显损伤，能够实现激光晶体的高效高质加工。相比传统硅溶胶化学机械抛光，晶体表面粗糙度有所降低，面型精度得到提升，加工效率提升2倍以上，能够有效缩短工时。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 耦合 超薄 激光 晶体化学 机械抛光 及其 制备 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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