[发明专利]偶氮苯单体、具有光响应性能的高强度低摩擦系数形状记忆聚合物材料及制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310416795.3 | 申请日： | 2023-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN116478063A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 王齐华;龚俊辉;张耀明;张新瑞;王廷梅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C07C245/08 | 分类号： | C07C245/08;C08F222/20;C08F216/12;C09K19/38 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种偶氮苯单体、具有光响应性能的高强度低摩擦系数形状记忆聚合物材料及其制备方法和应用，属于高分子聚合物材料技术领域。本发明提供了含有两个乙烯基的偶氮苯单体，利用偶氮苯在光刺激下的构象转变实现该材料的在形状记忆过程中的临时形状变形与固定和形状回复，实现了光控制的形状记忆性能，且含有两个乙烯基的偶氮苯单体还降低了基体液晶弹性体的摩擦系数，使得到的具有光响应性能的高强度低摩擦系数形状记忆聚合物材料表现出光调控摩擦系数的特性。偶氮苯基团引入后，材料的摩擦系数由原来的0.13降低到0.08。对实施例8所述材料施加紫外光照或者可见光照，其摩擦系数能够实现可控调节，摩擦系数的光调控变化显著。 | ||
| 搜索关键词： | 偶氮 单体 有光 响应 性能 强度 摩擦系数 形状 记忆 聚合物 材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院兰州化学物理研究所，未经中国科学院兰州化学物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310416795.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
