[发明专利]一种单光子后选择蒙特卡洛光子数成像方法在审
申请号: | 202310348062.0 | 申请日: | 2023-04-03 |
公开(公告)号: | CN116360097A | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 李粮生;朱勇;高洁;余全春;殷红成 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B26/00;G02B26/08;G02F1/35;G02F1/01;G01J1/42 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 张沫 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及光子成像技术领域,特别涉及一种单光子后选择蒙特卡洛光子数成像方法。本发明实施例提供一种单光子后选择蒙特卡洛光子数成像方法,包括:分别确定待测目标和参考板的反射率;将所述待测目标所在空间分为多个空间网格;按预设次数将纠缠状态的一对单光子分别射向一个所述空间网格和所述参考板,得到所述空间网格的平均光子数;根据所述平均光子数对所述空间网格赋值;根据所述空间网格的赋值成像。本发明实施例提供了一种单光子后选择蒙特卡洛光子数成像方法,能够提升单光子成像能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 光子 选择 蒙特卡洛 成像 方法 | ||
【主权项】:
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