[发明专利]一种耐溶剂交联结构阴离子交换膜的制备方法在审
| 申请号： | 202310305566.4 | 申请日： | 2023-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN116351254A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 阮慧敏;许婧雯;廖俊斌;沈江南 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D71/68;B01D69/02;B01D61/44;C08G75/23 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 孙孟辉 |
| 地址： | 310014 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种耐溶剂交联结构阴离子交换膜的制备方法，包括以下步骤：（1）制备交联剂N,N’‑双(5‑溴戊基)‑N,N,N’,N’‑四甲基‑1,6‑己二胺（DBH）；（2）制备含氨基的聚芳醚砜（PAES）；（3）分别溶解交联剂（DBH）和主链聚芳醚砜（PAES）并按一定投料比进行混合，获得铸膜液，并浇注于玻璃平板上，在60~100℃下干燥得到所述阴离子交换膜。本发明制备的耐溶剂交联结构阴离子交换膜具有低溶胀率、高有机溶剂耐受性和高脱盐率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溶剂 交联 结构 阴离子 交换 制备 方法 | ||
【主权项】：
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