[发明专利]一种抗辐照人工突触器件及其制备方法在审
| 申请号： | 202310251012.0 | 申请日： | 2023-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN116322289A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 宋宏甲;颜家琦;刘应东;陈骞鑫;钟向丽;王金斌;欧阳晓平 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | H10N70/20 | 分类号： | H10N70/20 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人： | 曾九莲 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗辐照人工突触器件及其制备方法。该人工突触器件包括金属底电极层、异质结阻变层和金属顶电极层，所述金属底电极层为金属钛层，所述异质结阻变层为金属掺杂氧化铪层和氧化钛层形成的复合层。该器件具有优异的权重更新线性度和对称性以及较强的抗辐照能力，可用于地面和空间电子系统的智能芯片。其制备方法简单，成本低廉，适合工业规模化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐照 人工 突触 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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