[发明专利]一种可监控的电解抛光设备在审
| 申请号： | 202310244267.4 | 申请日： | 2023-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN116397311A | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 陈顺华;陈嘉曜;唐火红;潘熊启玥;张俊生 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/16 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 何磊 |
| 地址： | 230009 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可监控的电解抛光设备，包括基座以及设于基座上并可沿X、Y轴移动的支撑装置；支撑装置上设有可旋转的电解槽；电解槽内设有工作台；工作台的下方固定有与支撑装置固定连接的阳极导电装置。本发明可实现在抛光过程中对工件抛光表面和电解抛光间隙的监控，使操作人员更清楚、及时地了解加工状况；同时，阴极夹头可沿Z轴方向移动，电解槽可沿X轴、Y轴移动，并且阴极夹头可实现倾斜角度的变化，电解槽可沿垂直轴线旋转，通过调整待抛光工件和阴极夹头的相对位置、角度和间隙距离，可抛光不同型面工件，具有一定柔性，可改善待抛光工件在抛光后的尺寸变化不均问题，可用于较高尺寸精度要求的工件进行抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监控 电解 抛光 设备 | ||
【主权项】：
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