[发明专利]用于对放射性样品进行树脂浇注的真空浇注装置

摘要

本申请实施例提供了一种用于对放射性样品进行树脂浇注的真空浇注装置，包括：真空室，滑台，盖板以及样品支架。真空室具有侧向开口。滑台配置成可朝接近或远离真空室的方向滑动，以进入真空室或从真空室中出来。盖板与滑台连接，当滑台朝接近或远离真空室的方向滑动时，盖板将侧向开口封闭或打开。样品支架设置于滑台上，用于承载放射性样品。本申请实施例的真空浇注装置，能够实现在真空室外对样品进行浇注，之后利用滑台和盖板使浇注后的样品进入真空室内进行真空保压处理。在真空保压处理后，还便于将真空保压后的样品移出真空室内在常压下静置。