[发明专利]一种基于软光刻的疏水变色透明基底制造方法在审
| 申请号： | 202310170438.3 | 申请日： | 2023-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN116339071A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 姜维;王兰兰;雷彪;李国俊;陈邦道;蒋维涛;牛东;尹磊;史永胜;刘红忠 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 范巍 |
| 地址： | 710049 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于软光刻的疏水变色透明基底制造方法，该发明属于微纳制造领域。该发明的特点在于选用了具有半导体光电特性的金属氧化物纳米材料，利用此类纳米材料本身具备的大比表面积，透光性和光电特性等，通过PDMS软光刻技术对其进行大面积多尺度图形化制造，实现同时具有良好透光性、疏水性的可变色透明基底。该方法不但具有压印技术的特点，如大面积、高效率、低成本、简单可靠等特点，同时能利用纳米颗粒材料大的比表面积吸附不同染料和其光电特性实现透明基底的防污、自清洁和光致变色等特性，可以广泛地应用在建筑玻璃、汽车玻璃、光学镜片、光电器件面板等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光刻 疏水 变色 透明 基底 制造 方法 | ||
【主权项】：
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