[发明专利]涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序在审
| 申请号： | 202310009218.2 | 申请日： | 2023-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN116422550A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 桥本祐作;八木纲大;松竹勇贵 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/00 | 分类号： | B05D1/00;B05D3/04;B05D3/00;B05C9/14;B05C11/08;B05C9/10;B08B3/02;B05C13/02 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序，提高基片面内的涂敷膜膜厚的控制性能。包括：涂敷工序，其对基片的正面的中心部供给涂敷液，使上述基片旋转以使上述涂敷液向该基片的周缘部扩展而形成涂敷膜；高温气体供给工序，其对旋转的该基片的背面的露出区域的一部分，供给温度比被供给了上述涂敷液的上述基片高的高温气体；膜厚分布调整工序，其使上述基片以第一转速旋转来调整上述基片的面内的上述涂敷膜的膜厚分布；和干燥工序，其在上述膜厚分布调整工序后，使该基片以与上述第一转速不同的第二转速旋转，来调整上述基片的整个面内的该涂敷膜的膜厚来使之干燥，其中，进行上述干燥工序的期间包含停止向上述基片供给上述高温气体的期间。 | ||
| 搜索关键词： | 涂敷膜 形成 方法 装置 程序 | ||
【主权项】：
暂无信息
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