[实用新型]一种用于双面同时曝光机对位平台有效
申请号: | 202223352435.1 | 申请日: | 2022-12-13 |
公开(公告)号: | CN218866309U | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 陈宁 | 申请(专利权)人: | 深圳市研宝工业科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市海顺达知识产权代理有限公司 44831 | 代理人: | 赵雪佳 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供一种用于双面同时曝光机对位平台,本实用新型用于双面同时曝光机对位平台包括对位平台主体,对位平台主体上设置有上框架、上层对位框、下层对位框和底框,上框架上设置有上曝光玻璃,上层对位框上设置有下曝光玻璃,下层对位框上设置有驱动上层对位框水平移动的第一驱动装置,底框上设置有驱动下层对位框水平移动的第二驱动装置。本实用新型的有益效果为:能够有效的解决现有曝光机的对位平台只能进行单面对位,出现对位精度低和对位效率低的问题,通过使用该产品结构,第一驱动装置能够驱动上层对位框水平移动进行对位,第二驱动装置能够驱动下层对位框水平移动进行对位,能够自动进行双面对位操作,提高了对位精度和对位效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 双面 同时 曝光 对位 平台 | ||
【主权项】:
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