[实用新型]一种二甲基亚砜喷射真空站有效
申请号: | 202222770539.8 | 申请日: | 2022-10-21 |
公开(公告)号: | CN218325516U | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 叶志文;付纯续;吕涛 | 申请(专利权)人: | 江山佶可特真空设备有限公司 |
主分类号: | F04F5/04 | 分类号: | F04F5/04;F04F5/36;F04F5/44 |
代理公司: | 温州市品创专利商标代理事务所(普通合伙) 33247 | 代理人: | 程春生 |
地址: | 324000 浙江省衢州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种二甲基亚砜喷射真空站,包括循环槽,所述循环槽的一端通过设有的喷射真空泵与设有的缓冲罐连接,且所述喷射真空泵的另一侧与设有的换热器连接;所述换热器的一端与设有的循环泵连接,且所述循环泵的另一端与所述循环槽连接。其中,所述循环槽内盛装有二甲基亚砜溶液,通过上述方式,以液相二甲基亚砜抽吸气相二甲基亚砜,并获得高真空。通过喷射真空泵、循环槽、循环泵、换热器、内部管件等零部件形成闭路循环真空站。另外,喷射真空泵无运动部件属于静设备,检修维护工作量小,且工作稳定性是其它设备不可替代的;安装调试合格后,喷射真空泵可安全、高效、持续稳定的运行。 | ||
搜索关键词: | 一种 二甲基亚砜 喷射 真空 | ||
【主权项】:
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