[实用新型]一种博物馆背景墙结构有效
申请号: | 202221655927.5 | 申请日: | 2022-06-30 |
公开(公告)号: | CN217759718U | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 张彤;陈明铭;褚文媛 | 申请(专利权)人: | 上海恩威建筑设计有限公司 |
主分类号: | E04F13/075 | 分类号: | E04F13/075;E04F13/12;E04F13/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201400 上海市奉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请涉及室内装饰技术领域,尤其是涉及一种博物馆背景墙结构,包括墙体和蚀刻铜板层,蚀刻铜板层位于墙体外侧,所述墙体朝向所述蚀刻铜板层的侧壁上设置有若干个安装模组,若干个所述安装模组沿所述墙体长度方向间隔均匀设置;相邻两个安装模组间设置有若干个固定座,若干个所述固定座沿所述墙体高度方向间隔均匀设置,所述固定座上设置有勾板,所述蚀刻铜板层朝向所述墙体上设置有与所述勾板相适配的干挂件,本申请具有使得蚀刻铜板层的拆装更加方便快捷的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 博物馆 背景墙 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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