[实用新型]一种多角度KTP晶体抛光设备有效
| 申请号： | 202220479759.2 | 申请日： | 2022-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN217394629U | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 赵修强;冯骥;翟娜娜;周婧 | 申请（专利权）人： | 山东辰晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/22 |
| 代理公司： | 天津市君砚知识产权代理有限公司 12239 | 代理人： | 刘伟杰 |
| 地址： | 250000 山东省济南市历*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种多角度KTP晶体抛光设备，包括底座、支撑架、打磨机构、升降调节机构、夹持机构和旋转调节机构，所述支撑架固定安装在底座上，所述打磨机构安装在升降调节机构上，所述升降调节机构安装在支撑架上用以带动打磨机构相对于支撑架进行升降，所述夹持机构安装在旋转调节机构上用以夹持晶体，所述旋转调节机构安装在底座上用以带动夹持机构相对于底座旋转。本实用新型通过升降调节机构能够带动打磨机构靠近或者远离晶体，水平电磁滑杆能够对打磨机构进行水平调节，旋转调节机构能够带动对夹持机构旋转，在对晶体进行抛光时，可以不断调节晶体抛光的角度，高光效果更好，效率也更高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 角度 ktp 晶体 抛光 设备 | ||
【主权项】：
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