[实用新型]密封结构及应用其的处理盒有效

专利信息
申请号: 202220385225.3 申请日: 2022-02-23
公开(公告)号: CN216956681U 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 黄万红 申请(专利权)人: 纳思达股份有限公司珠海分公司;纳思达股份有限公司
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 广东南越商专知识产权代理有限公司 44809 代理人: 许春兰;李琪
地址: 519060 广东省珠海市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种密封结构及应用其的处理盒。密封结构,用于显影仓的密封,包括:显影辊,可旋转地设于显影仓上;刮片,位于显影辊的相邻位置;密封件,位于显影辊的两端位置,密封件与显影辊的两端相抵,刮片的两端均设有沿宽度方向延伸的延伸条,密封件与延伸条相抵,延伸条、密封件、显影辊配合形成密封。处理盒,包括上述的密封结构。本实用新型提供一种专门对显影盒的显影仓的密封结构,本密封结构在刮片的两端设置有延伸条,延伸条、密封件、显影辊三者相互配合形成密封。本密封结构通过从而改变刮片的两端结构,达到密封效果;还能够减少显影辊的转动摩擦,保护显影辊的两端,避免显影辊受损,在保证打印品质,有效提高显影辊寿命。
搜索关键词: 密封 结构 应用 处理
【主权项】:
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