[实用新型]一种不易接触不良的真空灭弧室

摘要

本申请涉及真空灭弧室，更具体地涉及一种不易接触不良的真空灭弧室，其中所述不易接触不良的真空灭弧室，包括一壳体，所述壳体具一第一开口、第一腔体和一第二开口，所述第一开口和所述第二开口均与所述第一腔体相连通，且所述第一开口和所述第二开口还均与外部相连通；一中空的屏蔽筒，且所述屏蔽筒被卡接连接于形成所述第一腔体的壁面；以及一限位件，所述限位件被设于所述屏蔽筒内，且所述限位件还具有一贯穿所述限位件的通孔，所述限位件还具有一限位部，所述限位部呈环形。本实用新型能通过有效地利用其自身的结构配置实现使用便捷、结构简单、实用性高、不易接触不良的优势。