[实用新型]一种用于可喷绘反光膜的预处理装置

摘要

本实用新型公开了一种用于可喷绘反光膜的预处理装置，包括电晕机体，所述电晕机体的底部固定装设有电晕底座，所述电晕机体的前表面开设有电晕出口，所述电晕机体的前两侧对称装设有滑座，两个所述滑座之间装设有滑盖，所述滑座的内侧开设有卡槽，且所述滑座的内侧顶部开设有销槽；通过在该装置的电晕出口表面设置滑盖，当该装置在放置时，可将滑盖放下，盖设在电晕出口的表面，防止灰尘进入电晕机体的内部，影响电晕处理效果，使用时将滑盖滑动打开即可，当该装置电晕处理的膜尺寸不同，通过在该装置的导向辊上设置限位盘，限位盘可根据处理的膜主体的宽度进行调节，通过限位盘可对加工的膜主体进行限位，防止收卷时膜主体偏移收卷不整。