[发明专利]一种光学基准镜四维调节装置在审

专利信息
申请号: 202211638370.9 申请日: 2022-12-19
公开(公告)号: CN116224519A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 武春风;曾书琴;马社;靳广成;戴勋义 申请(专利权)人: 航天科工微电子系统研究院有限公司
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 刘小彬
地址: 610000 四川省成都市天府*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种光学基准镜四维调节装置,解决传统光学镜片系统调节时不能快速、高精度地建立光学基准的技术问题。本发明包括机械接口转接板,基准镜安装板,基准镜压盖,以及带刻线基准镜;基准镜压盖上设有用于径向调节带刻线基准镜的径向调节机构,机械接口转接板和基准镜安装板之间设有用于对带刻线基准镜进行轴向移动、及绕垂直于基准轴向平面两个方向转动的调节机构。本发明用来调节光学基准镜的轴向移动、绕垂直于基准轴向平面两个方向的转动、以及光学基准镜的径向移动共四个方向,可用于光机装调中的高精度光学基准的建立,本发明可以实现快速定位到光学中心附近,再通过微调更高效地与光轴机械中心对齐,调节更高效、便捷。
搜索关键词: 一种 光学 基准 镜四维 调节 装置
【主权项】:
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