[发明专利]一种微波等离子体去除涂层的装置及方法在审
| 申请号： | 202211632435.9 | 申请日： | 2022-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN115889344A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 王邱林;吉皓 | 申请（专利权）人： | 成都奋羽电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 古波 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微波等离子体去除涂层的装置及方法，属于微波等离子体应用技术领域，包括矩形波导、转换部件、喷射装置和进气管；所述喷射装置包括外壳和喷射部件；所述矩形波导左端设有微波馈入口，矩形波导通过转换部件连接外壳；所述外壳内设有等离子体发生腔；所述转换部件用于将矩形波导内的微波传输至等离子体发生腔；所述进气管用于向等离子体发生腔内输送反应气体；所述外壳上设有喷射部件；所述喷射部件用于喷射等离子体。本发明能有效改善现有去除涂层装置在去除涂层时通用性差、去除效率低和容易损伤基材表面等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微波 等离子体 去除 涂层 装置 方法 | ||
【主权项】：
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