[发明专利]一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备在审
申请号: | 202211619364.9 | 申请日: | 2022-12-15 |
公开(公告)号: | CN115928032A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 刘建波 | 申请(专利权)人: | 昆山东威科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/54 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 汤荞赫 |
地址: | 215300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备,包括:壳本体、放卷机构、收卷机构、镀膜辊结构、屏蔽隔离装置、溅射阴极结构以及抽气结构。该新型设备能实现在超薄膜材上一次完成多层膜系正反两面的镀膜,解决了起皱、针孔、掉渣等质量缺陷,比传统镀膜机上完成双面镀要采用正反面先后镀的方式,生产周期短,生产效率高、成品率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 磁控溅射 卷绕 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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