[发明专利]基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法及装置在审
| 申请号： | 202211539716.X | 申请日： | 2022-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN116211330A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 孙艳敏;韩玉;谭思宇;席晓琦;李磊;闫镔;朱林林;杨双站 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军战略支援部队信息工程大学 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人： | 张立强 |
| 地址： | 450000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法及装置，该方法包括：根据CL系统几何参数偏差与投影位置的关系，得出双向投影迹线；基于双向投影迹线得到CL系统几何参数的偏差最小单元；以偏差最小单元为评价指标分析各参数偏差敏感度。本发明基于该方法仿真分析了CL系统全部七个参数对投影迹线的影响，得到各几何参数偏差最小单元，并分析了旋转轴倾斜角度以及放大倍数对各参数偏差最小单元的影响。通过本发明的分析，可充分了解CL系统中各几何参数所需的校正精度，对于后续进一步研究、设计适用于CL系统的自校正算法具有重要的指导意义。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 投影 cl 系统 几何 参数 敏感度 分析 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军战略支援部队信息工程大学，未经中国人民解放军战略支援部队信息工程大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211539716.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
