[发明专利]层间键合的A-MXene纳米片、薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211516434.8 申请日: 2022-11-29
公开(公告)号: CN115991479A 公开(公告)日: 2023-04-21
发明(设计)人: 杨树斌;程宗举 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C01B35/06 分类号: C01B35/06;C01B32/90;C01B21/083;C01B21/086;B05D7/24;B82Y40/00;H05K9/00
代理公司: 北京谱帆知识产权代理有限公司 11944 代理人: 忻明
地址: 100191 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种层间键合的A‑MXene纳米片、薄膜及其制备方法,其中该A‑MXene纳米片的MXene片层之间存在M‑A‑M的键合点或键合段,所述A选自VIIB、VIII、IB、IIB、IIIA、IVA、VA或VIA族元素中的至少一种,所述M代表MXene片层中的过渡金属元素;步骤包括:将初始MXene材料与A的单质或A的化合物在预定温度下反应预定时间,得到具有手风琴形貌的产物,所述初始MXene材料为含有‑Cl、‑Br或‑I官能团的MXene材料;将所述具有手风琴形貌的产物剥离。本发明针对含‑Cl官能团的MXene材料电阻较高的技术问题,提供了一种新的改性路径。
搜索关键词: 层间键合 mxene 纳米 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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