[发明专利]层间键合的A-MXene纳米片、薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202211516434.8 | 申请日: | 2022-11-29 |
公开(公告)号: | CN115991479A | 公开(公告)日: | 2023-04-21 |
发明(设计)人: | 杨树斌;程宗举 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | C01B35/06 | 分类号: | C01B35/06;C01B32/90;C01B21/083;C01B21/086;B05D7/24;B82Y40/00;H05K9/00 |
代理公司: | 北京谱帆知识产权代理有限公司 11944 | 代理人: | 忻明 |
地址: | 100191 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种层间键合的A‑MXene纳米片、薄膜及其制备方法,其中该A‑MXene纳米片的MXene片层之间存在M‑A‑M的键合点或键合段,所述A选自VIIB、VIII、IB、IIB、IIIA、IVA、VA或VIA族元素中的至少一种,所述M代表MXene片层中的过渡金属元素;步骤包括:将初始MXene材料与A的单质或A的化合物在预定温度下反应预定时间,得到具有手风琴形貌的产物,所述初始MXene材料为含有‑Cl、‑Br或‑I官能团的MXene材料;将所述具有手风琴形貌的产物剥离。本发明针对含‑Cl官能团的MXene材料电阻较高的技术问题,提供了一种新的改性路径。 | ||
搜索关键词: | 层间键合 mxene 纳米 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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